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公开(公告)号：CN106831507A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710070871.4
申请日：2012-09-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07C309/65 , C07C311/09 , C07D493/18 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/30 , C07C309/65 , C07C311/09 , C07C2603/74 , C07D313/08 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 具有式(Ⅰ)所示结构的光酸产生剂化合物：[A‑(CHR1)p]k–(L)‑(CH2)m‑(C(R2)2)n‑SO3‑Z+(I)其中A是任选地包含O、S、N、F或包含上述至少一种的组合的取代或未取代的单环、多环或稠合多环的C5或者更大的脂环族基团，R1是H、单键、或取代或未取代的C1‑30烷基，其中当R1是单键时，R1是以共价键的方式与A的一个碳原子键合，每个R2独立地是H、F、或C1‑4氟烷基，其中至少一个R2不是氢，L是包括磺酸盐/酯基团、磺酰胺基团、或C1‑30的含有磺酸盐/酯或磺酰胺基团的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p是0到10的整数，k是1或2，m是0或更大的整数，n是1或更大的整数。本发明还公开了光酸产生剂的前体化合物、包含所述光酸产生剂的光刻胶组合物，和涂覆有所述光刻胶组合物的基材。
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公开(公告)号：CN104216224B
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201410242646.0
申请日：2014-06-03
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 本发明提供了新的光刻胶组合物，该组合物包含氨基甲酸酯化合物，所述氨基甲酸酯化合物包含1)氨基甲酸酯基团和2)酯基团。本发明优选的光刻胶可以包含：具有对酸不稳定的基团的树脂；酸生成剂化合物；以及氨基甲酸酯化合物，该化合物可以用来减少光致生成的酸扩散到光刻胶涂层的未曝光区域以外的不利现象。
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公开(公告)号：CN103086934A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210520596.9
申请日：2012-09-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07C381/12 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07C309/06 , C07C311/09 , C07D493/18 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D497/18 , G03F7/004 , G03F7/09
CPC classification number: G03F7/30 , C07C309/65 , C07C311/09 , C07C2603/74 , C07D313/08 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 具有式(I)所示结构的光酸产生剂化合物：[A-(CHR1)p]k-(L)-(CH2)m-(C(R2)2)n-SO3-Z+ (I)，其中A是任选地包含O、S、N、F或包含上述至少一种的组合的取代或未取代的单环、多环或稠合多环的C5或者更大的脂环族基团，R1是H、单键、或取代或未取代的C1-30烷基，其中当R1是单键时，R1是以共价键的方式与A的一个碳原子键合，每个R2独立地是H、F、或C1-4氟烷基，其中至少一个R2不是氢，L是包括磺酸盐/酯基团、磺酰胺基团、或C1-30的含有磺酸盐/酯或磺酰胺基团的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p是0到10的整数，k是1或2，m是0或更大的整数，n是1或更大的整数。本发明还公开了光酸产生剂的前体化合物、包含所述光酸产生剂的光刻胶组合物，和涂覆有所述光刻胶组合物的基材。
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公开(公告)号：CN104216224A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201410242646.0
申请日：2014-06-03
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
Abstract: 本发明提供了新的光刻胶组合物，该组合物包含氨基甲酸酯化合物，所述氨基甲酸酯化合物包含1)氨基甲酸酯基团和2)酯基团。本发明优选的光刻胶可以包含：具有对酸不稳定的基团的树脂；酸生成剂化合物；以及氨基甲酸酯化合物，该化合物可以用来减少光致生成的酸扩散到光刻胶涂层的未曝光区域以外的不利现象。
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