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公开(公告)号：CN106831507A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201710070871.4
申请日：2012-09-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07C309/65 , C07C311/09 , C07D493/18 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07C381/12 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/30 , C07C309/65 , C07C311/09 , C07C2603/74 , C07D313/08 , C07D313/10 , C07D327/04 , C07D493/18 , C07D497/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 具有式(Ⅰ)所示结构的光酸产生剂化合物：[A‑(CHR1)p]k–(L)‑(CH2)m‑(C(R2)2)n‑SO3‑Z+(I)其中A是任选地包含O、S、N、F或包含上述至少一种的组合的取代或未取代的单环、多环或稠合多环的C5或者更大的脂环族基团，R1是H、单键、或取代或未取代的C1‑30烷基，其中当R1是单键时，R1是以共价键的方式与A的一个碳原子键合，每个R2独立地是H、F、或C1‑4氟烷基，其中至少一个R2不是氢，L是包括磺酸盐/酯基团、磺酰胺基团、或C1‑30的含有磺酸盐/酯或磺酰胺基团的连接基团，Z是有机或无机阳离子，p是0到10的整数，k是1或2，m是0或更大的整数，n是1或更大的整数。本发明还公开了光酸产生剂的前体化合物、包含所述光酸产生剂的光刻胶组合物，和涂覆有所述光刻胶组合物的基材。
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公开(公告)号：CN102799068B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201210264011.1
申请日：2012-05-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。
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公开(公告)号：CN102225924B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：CN201010625286.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07D333/46 , C07D493/18 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07J31/00 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , C07D493/20 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
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公开(公告)号：CN102153695B
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201010625231.3
申请日：2010-12-30
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F220/32 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/38 , C08F220/34 , C08F220/28 , G03F7/039 , B32B27/06 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F28/02 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , C08F2220/301 , C08F220/22
Abstract: 本发明为光敏组合物。提供了可用于光刻工艺中的辐射敏感聚合物和组合物。所述聚合物和组合物提高了对激活辐射的敏感度。
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公开(公告)号：CN102225924A
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201010625286.4
申请日：2010-12-10
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C07D333/46 , C07D493/18 , C07C309/12 , C07C303/32 , C07C381/12 , C07J31/00 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C321/30 , C07C381/12 , C07C2603/74 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D337/04 , C07D493/20 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397
Abstract: 光酸发生剂和包含该光酸发生剂的光致抗蚀剂。本发明提供光酸发生剂化合物(“PAGs”)新的合成方法，新的光酸发生剂化合物以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。一个特别的方面，提供含锍(S+)光酸发生剂以及锍类光酸发生剂的合成方法。提供了一种含锍化合物的制备方法，所述制备方法包括环合烷基硫代化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102212100A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201010625251.0
申请日：2010-12-10
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , C07J31/006 , G03F7/0046 , G03F7/0382
Abstract: 本发明涉及一种新的包含一个胆酸酯部分的光酸发生剂化合物(“PAGs”)，以及包含这种PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。提供了一种光酸发生剂化合物，所述化合物选自下列通式(I)和(II)：在通式(I)和(II)中：M+代表有机鎓基团；R1代表甾体结构；m是0到10的整数；n是正整数。
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公开(公告)号：CN104423151A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410431486.4
申请日：2014-08-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , C07D317/72 , C07D317/34 , C07D407/12 , C07D493/18
CPC classification number: C07D317/72 , C07D319/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2002
Abstract: 一种具有通式(1)的光致酸生成剂化合物：其中，n是0或1；以及R1-R6各自独立地是氢、卤素、未取代或取代的C1-20直链或支链烷基、C1-20环烷基、C6-20芳基、C3-20杂芳基或具有以下结构的酸生成基团：其中L是未取代或取代的C1-50二价基团；Z-是单价阴离子基团；M+是碘鎓离子或锍阳离子。成对的R基团可与它们所相连的碳结合以形成环，只要形成的这种环不超过两个即可。R1-R6中的至少一个包括酸生成基团，或者两个成对的R基团结合形成酸生成基团。本发明还描述了包含所述光致酸生成剂化合物的光刻胶组合物、包含所述光刻胶组合物的层的涂覆的基材，以及使用所述光刻胶组合物的层形成电子器件的方法。
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公开(公告)号：CN102718932B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201110461847.6
申请日：2011-11-16
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: C08F293/00 , G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F212/34 , C08F216/12 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , C08F216/125 , C08F216/165 , C08F216/1466
Abstract: 本发明涉及光敏共聚物和光致抗蚀剂组合物，具体涉及一种由下式所示的共聚物，其中，R1-R5独立地为H，C1-6烷基或C4-6芳基，R6为氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团；每个Ar独立地为C6-20的单环、多环或稠合多环芳基基团；每个R7和R8独立地为-OR11或C(CF3)2OR11基团，其中，每个R11独立地为H，氟化或未氟化的C5-30酸可分解基团，或它们的组合；每个R9独立地为F，C1-10烷基，C1-10氟烷基，C1-10烷氧基或C1-10氟烷氧基；R10为含有光致产酸剂的阳离子-结合C10-40基团，摩尔分数a，b，d独立地为0-0.80，摩尔分数c为0.01-0.80，e为0-0.50，前提是a，b，d均为0时，则e大于0，摩尔分数a+b+c+d+e之和为1，l和m独立地为1-4的整数，且n为0-5的整数。一种光致抗蚀剂，以及一种涂层基材，其均包括所述共聚物。
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公开(公告)号：CN103186046A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN201210586171.8
申请日：2012-12-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/09 , C07D493/18 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07C381/12
CPC classification number: C07D493/18 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/0392
Abstract: 一种光致生酸剂，包括式(I)所示的化合物：其中，式(I)中各Ra独立地是H、F、C1-10非氟化有机基团、C1-10氟化有机基团，或包括至少一种上述基团的组合，前提是至少一个Ra是F或C1-10氟化有机基团，所述C1-10氟化和非氟化有机基团各自任选地包含O,S,N或包括至少一种上述杂原子的组合；L1是连接基团，所述连接基团包含包括O,S,N,F的杂原子或者包括至少一种上述杂原子的组合；G+是式(II)的鎓盐：其中在式(II)中，X是S或I，各R0独立地是C1-30烷基，多环或单环C3-30环烷基，多环或单环C4-30芳基，或包括至少一种上述基团的组合，前提是各R0是C6单环芳基时至少一个R0是被取代的，其中当X是I时，a是2，X是S时,a是3，p是0或1，q是1-10的整数。
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公开(公告)号：CN102799068A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201210264011.1
申请日：2012-05-28
Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司
CPC classification number: G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0397
Abstract: 一种光刻胶组合物包含酸敏感聚合物，和具有如下通式的环状锍化合物：(Ra)1-(Ar)-S+(-CH2-)m·-O3S-(CRb2)n-(L)p-X其中每个Ra独立地为取代或未取代的C1-30烷基，C6-30芳基，C7-30芳烷基，或包含前述至少一种的组合，Ar是单环，多环，或稠合多环C6-30芳基，每个Rb独立地为H，F，直链或支链的C1-10氟烷基，或直链或支链的含有杂原子的C1-10氟烷基，L是C1-30的连接基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含至少一种前述杂原子的组合，X是取代或未取代的C5或更大的单环，多环或稠合多环脂环基团，任选包含杂原子，所述杂原子包含O，S，N，F，或包含前述至少一种的组合，并且1是0到4的整数，m是3到20的整数，n是0到4的整数，且p是0到2的整数。
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