发明授权
- 专利标题: 成膜装置
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申请号: CN201180045171.0申请日: 2011-11-15
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公开(公告)号: CN103119192B公开(公告)日: 2015-08-05
- 发明人: 早坂智洋 , 高桥康司 , 久保昌司 , 长岛雅弘
- 申请人: 株式会社爱发科
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理商 齐葵; 周艳玲
- 优先权: 2010-255191 2010.11.15 JP
- 国际申请: PCT/JP2011/076243 2011.11.15
- 国际公布: WO2012/067085 JA 2012.05.24
- 进入国家日期: 2013-03-20
- 主分类号: C23C14/50
- IPC分类号: C23C14/50 ; H01L21/205 ; H01L21/683
摘要:
该成膜装置(10)包括:成膜室(11),用于在基板(W)形成覆膜;搬运架(14),用于垂直保持所述基板(W)以使所述基板(W)的一面沿竖直方向;装入和取出室(12),配置为通过开关部(17)与所述成膜室(11)连通;移动机构(40),设置在所述装入和取出室内,用于使所述搬运架(14)在使所述搬运架(14)在与所述成膜室(11)之间能够插脱的运送位置(P0)和与所述运送位置相邻的避让位置(P1、P2)之间移动,并且使所述搬运架(14)沿相对于竖直方向及水平方向分别形成大于0°且小于90°的规定角度的倾斜方向上下移动。
公开/授权文献
- CN103119192A 成膜装置 公开/授权日:2013-05-22