公开(公告)号：CN103119192A

公开(公告)日：2013-05-22

申请号：CN201180045171.0

申请日：2011-11-15

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 早坂智洋 ,  高桥康司 ,  久保昌司 ,  长岛雅弘

IPC分类号： C23C14/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67712 ,  C23C14/50 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776

摘要： 该成膜装置（10）包括：成膜室（11），用于在基板（W）形成覆膜；搬运架（14），用于垂直保持所述基板（W）以使所述基板（W）的一面沿竖直方向；装入和取出室（12），配置为通过开关部（17）与所述成膜室（11）连通；移动机构（40），设置在所述装入和取出室内，用于使所述搬运架（14）在使所述搬运架（14）在与所述成膜室（11）之间能够插脱的运送位置（P0）和与所述运送位置相邻的避让位置（P1、P2）之间移动，并且使所述搬运架（14）沿相对于竖直方向及水平方向分别形成大于0°且小于90°的规定角度的倾斜方向上下移动。

公开(公告)号：CN106796915A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201680003147.3

申请日：2016-03-31

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 前平謙 ,  不破耕 ,  早坂智洋

IPC分类号： H01L21/683 ,  H02N13/00

摘要： 本发明提供一种使在与吸附对象物接触的面的吸附力降低来抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有：在电介质中具有用于对基板10进行吸附保持的逆极性的一对吸附电极11、12的主体部50、以及相对于一对吸附电极11、12在主体部50的吸附侧的部分以跨越一对吸附电极11的阳极11a和阴极11b以及一对吸附电极12的阳极12a和阴极12b的方式分别配置的导电性膜51。

公开(公告)号：CN106796915B

公开(公告)日：2020-02-18

申请号：CN201680003147.3

申请日：2016-03-31

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 前平謙 ,  不破耕 ,  早坂智洋

IPC分类号： H01L21/683 ,  H02N13/00

摘要： 本发明提供一种使在与吸附对象物接触的面的吸附力降低来抑制吸附对象物的吸附和剥离时的灰尘的产生并且能够以使吸附装置的吸附力均匀的方式进行控制的技术。本发明的吸附装置具有：在电介质中具有用于对基板10进行吸附保持的逆极性的一对吸附电极11、12的主体部50、以及相对于一对吸附电极11、12在主体部50的吸附侧的部分以跨越一对吸附电极11的阳极11a和阴极11b以及一对吸附电极12的阳极12a和阴极12b的方式分别配置的导电性膜51。

公开(公告)号：CN103119192B

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201180045171.0

申请日：2011-11-15

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 早坂智洋 ,  高桥康司 ,  久保昌司 ,  长岛雅弘

IPC分类号： C23C14/50 ,  H01L21/205 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/67712 ,  C23C14/50 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776

摘要： 该成膜装置（10）包括：成膜室（11），用于在基板（W）形成覆膜；搬运架（14），用于垂直保持所述基板（W）以使所述基板（W）的一面沿竖直方向；装入和取出室（12），配置为通过开关部（17）与所述成膜室（11）连通；移动机构（40），设置在所述装入和取出室内，用于使所述搬运架（14）在使所述搬运架（14）在与所述成膜室（11）之间能够插脱的运送位置（P0）和与所述运送位置相邻的避让位置（P1、P2）之间移动，并且使所述搬运架（14）沿相对于竖直方向及水平方向分别形成大于0°且小于90°的规定角度的倾斜方向上下移动。