发明授权
- 专利标题: 成膜方法
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申请号: CN201210576159.9申请日: 2012-12-26
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公开(公告)号: CN103184429B公开(公告)日: 2016-06-08
- 发明人: 古屋治彦 , 小川淳 , 上西雅彦 , 伊势昌之 , 榎美贵
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2011-285848 2011.12.27 JP
- 主分类号: C23C16/44
- IPC分类号: C23C16/44 ; C23C16/40
摘要:
本发明提供一种成膜方法,其是在成膜装置中进行的成膜方法,该成膜装置包括用于载置多个晶圆的旋转台;在旋转台的上方划分的第一反应气体供给区域、第二反应气体供给区域;以及用于分离第一反应气体供给区域和第二反应气体供给区域的分离区域,该成膜方法包括如下步骤:不向第二反应气体供给区域供给反应气体,向第一反应气体供给区域供给第一反应气体,通过旋转台的旋转使晶圆暴露于第一反应气体,从而使该气体吸附于晶圆表面;接着该步骤,不向第一反应气体供给区域供给反应气体,向第二反应气体供给区域供给第二反应气体,通过旋转台的旋转使晶圆暴露于第二反应气体,从而使吸附于晶圆表面的第一反应气体与第二反应气体反应。
公开/授权文献
- CN103184429A 成膜方法 公开/授权日:2013-07-03
IPC分类: