- 专利标题： 用于确定光学系统中的反射镜的发热状况的方法和布置
-
申请号： CN201180056581.5申请日： 2011-11-17
-
公开(公告)号： CN103250101B公开(公告)日： 2016-11-02
- 发明人: P.沃格特 , M.赫尔曼 , O.迪尔 , A.G.马乔
- 申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址： 德国上科亨
- 专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国上科亨
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 邱军
- 优先权： 102010061950.7 2010.11.25 DE; 61/417,552 2010.11.29 US
- 国际申请： PCT/EP2011/070320 2011.11.17
- 国际公布： WO2012/069351 EN 2012.05.31
- 进入国家日期： 2013-05-24
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G01M11/00 ; G01N21/41 ; G01B11/06
摘要：
本发明涉及用于确定在光学系统，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中，反射镜为EUV反射镜，以及根据本发明的方法包含以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上；测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数；以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。
公开/授权文献
- CN103250101A 用于确定光学系统中的反射镜的发热状况的方法和布置 公开/授权日：2013-08-14