晶体管及其形成方法
摘要:
一种晶体管及其形成方法,其中,所述晶体管包括:半导体衬底;位于所述半导体衬底表面的栅介质层;位于所述栅介质层表面的氮化硅层;位于所述氮化硅层表面的栅电极层,所述氮化硅层与栅介质层相接触表面为第一表面,所述氮化硅层与栅电极层相接触的表面为第二表面,所述第二表面的硅原子百分比浓度比第一表面高;位于所述栅电极层、氮化硅层和栅介质层两侧的半导体衬底表面的侧墙;位于所述栅电极层和侧墙两侧的半导体衬底内的源/漏区。所述晶体管的开启电压减小,功耗降低。
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