发明授权
- 专利标题: 成膜方法
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申请号: CN201310712445.8申请日: 2013-12-20
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公开(公告)号: CN103882408B公开(公告)日: 2017-06-23
- 发明人: 立花光博 , 池川宽晃 , 和村有 , 尾谷宗之 , 小川淳 , 高桥宏辅
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2012-279922 20121221 JP
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455 ; C23C16/40 ; H01L21/316
摘要:
本发明提供一种成膜方法。该成膜方法利用成膜装置在上述多个基板上形成含有第1元素及第2元素的掺杂氧化膜,该成膜方法包括以下工序:成膜工序,从上述第1气体供给部供给含有上述第1元素的第1反应气体,从上述第2气体供给部供给氧化气体,在上述基板上形成含有上述第1元素的氧化膜;以及掺杂工序,从上述第1气体供给部和上述第2气体供给部中的一者供给含有上述第2元素的第2反应气体,从上述第1气体供给部和上述第2气体供给部中的另一者供给非活性气体,在上述氧化膜上掺杂上述第2元素。
公开/授权文献
- CN103882408A 成膜方法 公开/授权日:2014-06-25
IPC分类: