- 专利标题： 用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法
- 专利标题（英）： Monomer for hardmask composition and hardmask composition including the monomer and method of forming patterns using the hardmask composition
-
申请号： CN201310300799.1申请日： 2013-07-17
-
公开(公告)号： CN103896736A公开(公告)日： 2014-07-02
- 发明人: 李圣宰 , 田桓承 , 赵娟振 , 李哲虎 , 李忠宪
- 申请人： 第一毛织株式会社
- 申请人地址： 韩国庆尚北道
- 专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人： 第一毛织株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国庆尚北道
- 代理机构： 北京康信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 余刚; 张英
- 优先权： 10-2012-0155330 2012.12.27 KR
- 主分类号： C07C33/26
- IPC分类号： C07C33/26 ; C07C43/23 ; G03F7/09 ; G03F7/11 ; G03F7/00
摘要：
本发明公开了用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法。用于硬掩模组合物的单体，由下面化学式1表示，其中在化学式1中，A0、A1、A2、L1、L1′、L2、L2′、X1、X2、m和n与具体实施方式中相同。[化学式1]
公开/授权文献
- CN103896736B 用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法 公开/授权日：2017-06-23
