公开(公告)号：CN104024940B

公开(公告)日：2018-05-01

申请号：CN201280065648.6

申请日：2012-11-29

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金润俊 ,  田桓承 ,  赵娟振 ,  尹龙云 ,  李忠宪 ,  权孝英 ,  崔有廷

IPC: G03F7/11 ,  G03F1/38 ,  G03F7/004 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC classification number: C07C39/21 ,  C07C39/225 ,  C08G65/38 ,  G03F1/00 ,  G03F7/094 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/31144

Abstract: 本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。

公开(公告)号：CN104040430B

公开(公告)日：2017-11-24

申请号：CN201280065652.2

申请日：2012-07-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权志伦 ,  李种和 ,  赵显龙 ,  金大润 ,  金上权 ,  金相均 ,  金尚洙 ,  尹银卿 ,  李俊昊 ,  李珍泳 ,  田桓承 ,  洪忠范 ,  黃银夏

IPC: G03F7/022 ,  G03F7/004 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03C1/61 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/105

Abstract: 公开了正性光敏树脂组合物，该正性光敏树脂组合物包含：(A)选自聚苯并噁唑前体、聚酰亚胺前体、以及它们的组合的碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)苯酚化合物；(D)有机染料以及(E)溶剂，其中，有机染料(D)包含至少一种具有590nm至700nm的吸收波长的红染料、至少一种具有550nm至590nm的吸收波长的黄染料、以及至少一种具有450nm至500nm的吸收波长的蓝染料。

公开(公告)号：CN103896736B

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201310300799.1

申请日：2013-07-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李圣宰 ,  田桓承 ,  赵娟振 ,  李哲虎 ,  李忠宪

IPC: C07C33/26 ,  C07C43/23 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C33/26 ,  C07C43/23 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明公开了用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法。用于硬掩模组合物的单体，由下面化学式1表示，其中在化学式1中，A0、A1、A2、L1、L1′、L2、L2′、X1、X2、m和n与具体实施方式中相同。[化学式1]

公开(公告)号：CN103186048B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201210351065.1

申请日：2012-09-19

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 权志伦 ,  姜真熙 ,  金大润 ,  金上权 ,  金相均 ,  金尚洙 ,  卢健培 ,  尹银卿 ,  李种和 ,  李俊昊 ,  李珍泳 ,  田桓承 ,  赵显龙 ,  洪忠范 ,  黄银夏

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/016 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03F7/105 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/0757

Abstract: 本发明提供了正性光敏树脂组合物，及使用其的光敏树脂层和显示装置。该组合物包括选自聚苯并噁唑前体、聚酰亚胺前体，及其组合的（A）碱溶性树脂，（B）光敏重氮醌化合物，（C）苯酚化合物，（D）具有400nm到700nm吸收波长的至少一种有机染料，以及（E）溶剂，其中基于100重量份的碱溶性树脂（A），包括1至40重量份的有机染料（D）。

公开(公告)号：CN105143316A

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201380075904.4

申请日：2013-12-18

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  张胜宇 ,  田桓承

IPC: C08G77/26 ,  C08G77/442 ,  C08L83/08 ,  H01L23/29

Abstract: 本发明涉及可光致固化组合物，包括(A)通过化学式1表示的含有氰基的硅类可光致固化单体和(B)引发剂，以及包括其的封装器件。

公开(公告)号：CN102695986B

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201080060358.3

申请日：2010-10-11

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 金旼秀 ,  田桓承 ,  赵诚昱 ,  吴丞培 ,  宋知胤

IPC: G03F7/11

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08F12/22 ,  C08F212/32 ,  C08F232/08

Abstract: 本发明提供了用于抗蚀剂下层的含芳环的聚合物和包含该聚合物的抗蚀剂下层组合物。该含芳环的聚合物包括如以化学式1表示的单元结构。

公开(公告)号：CN104250333A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201410120644.4

申请日：2014-03-27

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 姜龙熙 ,  金万锡 ,  田桓承

IPC: C08F212/10 ,  C08F230/02 ,  C08F220/44

CPC classification number: C08F212/10 ,  C08F230/02 ,  C08F220/44

Abstract: 本申请公开一种热塑性共聚物、制备其的方法和包含其的模制品。该热塑性共聚物是包含以下的单体混合物的聚合物：由式1表示的含磷（甲基）丙烯酸类单体；芳族乙烯基单体；以及乙烯基氰化物单体。在式I中，R1是氢原子或甲基；R2是取代的或未取代的C1至C20烃基；R3和R4是各自独立的取代的或未取代的C6至C20环烃基团；m是从1至10的整数；以及n是从0至5的整数。该热塑性共聚物表现出优异的阻燃性而不劣化耐热性，并且是环境友好的，[式1]

公开(公告)号：CN102227458B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN200980148064.3

申请日：2009-12-01

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 尹敬皓 ,  李镇国 ,  田桓承 ,  金旼秀 ,  宋知胤

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/00 ,  C08L65/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08L65/00 ,  C08G61/02 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/1067 ,  C08G2261/3424 ,  C08L79/08 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094

Abstract: 本发明提供一种用于平版印刷方法的具有良好抗反射性的下层组合物。该组合物具有优异的光学特性、机械特性，及蚀刻选择性，且可使用旋涂方法涂敷。有利地，该组合物可应用于短波长平版印刷方法并显示最少的剩余酸。

公开(公告)号：CN103901727A

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201310239669.1

申请日：2013-06-17

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 李俊昊 ,  权孝英 ,  田桓承

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233

Abstract: 本发明提供了一种正感光性树脂组合物、由其制造的有机绝缘膜和显示装置。所述正感光性树脂组合物包含：（A）选自包含由下列化学式1表示的重复单元的化合物和包含由下列化学式2表示的重复单元的化合物中的至少一种溶解控制剂，（B）聚苯并噁唑前体，（C）感光性重氮醌化合物，和（D）溶剂。[化学式1][化学式2]在化学式1和2中，各个取代基与具体实施方式中限定的相同。

公开(公告)号：CN102060980B

公开(公告)日：2013-12-11

申请号：CN201010242377.X

申请日：2010-07-29

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 宋知胤 ,  田桓承 ,  赵诚昱 ,  尹敬皓 ,  金旼秀 ,  吴丞培

IPC: C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/76 ,  C08L65/00 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明公开了一种光刻胶下层聚合物、含有这种光刻胶下层聚合物的光刻胶下层组合物以及图案化器件的方法。该聚合物包括由以下化学式1表示的重复单元和/或由以下化学式2表示的重复单元。[化学式1] [化学式2]在以上化学式1或2中，每一取代基与在详细描述中定义的取代基相同。