发明授权
- 专利标题： 808nm平顶光场大功率激光器
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申请号： CN201510055185.0申请日： 2015-02-03
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公开(公告)号： CN104600562B公开(公告)日： 2017-08-29
- 发明人: 宁吉丰 , 陈宏泰 , 车相辉 , 王彦照 , 林琳 , 位永平 , 王晶
- 申请人： 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 申请人地址： 河北省石家庄市合作路113号
- 专利权人： 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人： 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人地址： 河北省石家庄市合作路113号
- 代理机构： 石家庄国为知识产权事务所
- 代理商 米文智
- 主分类号： H01S5/323
- IPC分类号： H01S5/323 ; H01S5/20
摘要：
本发明公开了一种808nm平顶光场大功率激光器，涉及半导体激光器技术领域；包括衬底以及在衬底上从下至上依次生长的缓冲层、下限制层、下光场作用层、下波导层、量子阱层、上波导层、上光场作用层、上限制层和电极接触层，所述下光场作用层采用高掺杂的N型AlGaAs材料，上光场作用层采用高掺杂的P型AlGaAs材料。本发明快轴光场顶部分布均匀，能够进一步降低有源区光功率密度，提高激光器的可靠性和耐用性。
公开/授权文献
- CN104600562A 808nm平顶光场大功率激光器 公开/授权日：2015-05-06
