发明授权
- 专利标题: 平台系统以及包括该平台系统的光刻设备
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申请号: CN201380048294.9申请日: 2013-08-19
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公开(公告)号: CN104641297B公开(公告)日: 2016-11-23
- 发明人: R·A·C·M·比伦斯 , R·J·T·鲁滕 , J·S·C·韦斯特拉肯 , K·J·J·M·扎尔 , R·H·A·范莱肖特 , E·A·F·范德帕施
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 北京市金杜律师事务所
- 代理商 王茂华; 吕世磊
- 优先权: 61/702,634 2012.09.18 US
- 国际申请: PCT/EP2013/067253 2013.08.19
- 国际公布: WO2014/044477 EN 2014.03.27
- 进入国家日期: 2015-03-17
- 主分类号: G03F7/20
- IPC分类号: G03F7/20 ; G01D5/00
摘要:
一种平台系统,包括:可移动平台;以及用于测量平台的位置的编码器,其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器,编码器束在使用中沿着光路径传播;净化帽体,至少部分地包围光学路径;以及净化介质供应装置,用于将净化介质供应到净化帽体中。
公开/授权文献
- CN104641297A 平台系统以及包括该平台系统的光刻设备 公开/授权日:2015-05-20
IPC分类: