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    位置测量系统、干涉仪和光刻设备
    3.
    发明公开
    位置测量系统、干涉仪和光刻设备 无效

    公开(公告)号：CN107924133A

    公开(公告)日：2018-04-17

    申请号：CN201680046022.9

    申请日：2016-07-29

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： E·A·F·范德帕施 ,  R·E·范利尤文

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G01B9/02

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G01B9/02019 ,  G01B9/02061 ,  G01B11/026 ,  G01B11/26 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/7085

    摘要： 提供了位置测量系统(200)，包括具有反射表面(204)的物体(202)和用于确定物体的位置的干涉仪(206)。反射表面具有第一区域(210a)、第二区域(210b)和第三区域(210c)。干涉仪布置为通过照射第一区域生成表示位置的第一信号。干涉仪布置为通过照射第二区域生成表示位置的第二信号。干涉仪布置为通过照射第三区域生成表示位置的第三信号。沿着线(212)，第一区域和第二区域相对于彼此在第一距离(214a)处。沿着该线，第二区域和第三区域相对于彼此在第二距离(214b)处。沿着该线，第一区域和第三区域相对于彼此在第三距离(214c)处。干涉仪布置为基于第一信号、第二信号和第三信号提供表示物体沿着轴线的旋转的旋转信号。轴线平行于反射表面并且垂直于该线。

    光刻装置和器件制造方法
    4.
    发明公开
    光刻装置和器件制造方法 有权

    公开(公告)号：CN101038442A

    公开(公告)日：2007-09-19

    申请号：CN200710085565.4

    申请日：2007-03-12

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： E·R·卢普斯特拉 ,  E·A·F·范德帕施

    IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70341

    摘要： 一种光刻装置包括：液体限制系统，用于将液体限制在投影系统的最末元件和基底之间的空间内；以及第一和第二基底平台，各基底平台设置成相互配合以便进行联合移动，用于使得光刻装置从第一状态朝着第二状态变化，在该第一状态中，该液体被限制在由第一基底平台保持的第一基底和该最末元件之间，而在第二状态中，该液体被限制在由第二基底平台保持的第二基底和最末元件之间；这样，在该联合移动过程中，该液体基本上被限制在与该最末元件相关的该空间中。该装置还包括位置测量系统，它设置成至少在该联合移动过程中测量第一基底平台和第二基底平台的位置。

    干涉测量台定位装置
    6.
    发明授权
    干涉测量台定位装置 有权

    公开(公告)号：CN111183501B

    公开(公告)日：2022-11-25

    申请号：CN201880065095.1

    申请日：2018-10-01

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： M·K·M·巴格根 ,  W·O·普里尔 ,  E·A·F·范德帕施

    IPC分类号： H01J37/20

    摘要： 一种用于电子束检查装置的台装置，包括：载物台(3)，其包括支撑表面，该载物台被配置为将衬底(190)支撑在该支撑表面上；定位设备(180)，其被配置为定位载物台；位置测量系统(5)，其包括位置传感器(8‑10)，该位置传感器被配置为测量载物台的平行于第一轴线的高度位置，该第一轴线基本垂直于支撑表面，该位置传感器包括具有干涉仪传感器(9、10、12)的干涉仪测量系统，其中干涉仪传感器的测量束(11、15)被配置为沿测量方向照射载物台的反射表面，该测量方向具有平行于第一轴线的第一分量和平行于第二轴线的第二分量，该第二轴线基本上垂直于第一轴线。

    干涉测量台定位装置
    7.
    发明公开
    干涉测量台定位装置 有权

    公开(公告)号：CN111183501A

    公开(公告)日：2020-05-19

    申请号：CN201880065095.1

    申请日：2018-10-01

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： M·K·M·巴格根 ,  W·O·普里尔 ,  E·A·F·范德帕施

    IPC分类号： H01J37/20

    摘要： 一种用于电子束检查装置的台装置，包括：载物台(3)，其包括支撑表面，该载物台被配置为将衬底(190)支撑在该支撑表面上；定位设备(180)，其被配置为定位载物台；位置测量系统(5)，其包括位置传感器(8-10)，该位置传感器被配置为测量载物台的平行于第一轴线的高度位置，该第一轴线基本垂直于支撑表面，该位置传感器包括具有干涉仪传感器(9、10、12)的干涉仪测量系统，其中干涉仪传感器的测量束(11、15)被配置为沿测量方向照射载物台的反射表面，该测量方向具有平行于第一轴线的第一分量和平行于第二轴线的第二分量，该第二轴线基本上垂直于第一轴线。