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公开(公告)号：CN1991591B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200610171747.9
申请日：2006-12-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·J·J·M·扎尔 , J·J·奥坦斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70875
摘要： 公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。
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公开(公告)号：CN104641297B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201380048294.9
申请日：2013-08-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·A·C·M·比伦斯 , R·J·T·鲁滕 , J·S·C·韦斯特拉肯 , K·J·J·M·扎尔 , R·H·A·范莱肖特 , E·A·F·范德帕施
CPC分类号： G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
摘要： 一种平台系统，包括：可移动平台；以及用于测量平台的位置的编码器，其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器，编码器束在使用中沿着光路径传播；净化帽体，至少部分地包围光学路径；以及净化介质供应装置，用于将净化介质供应到净化帽体中。
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公开(公告)号：CN1945441A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610142140.8
申请日：2006-10-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·J·蒂尼曼斯 , W·J·弗尼马 , K·J·J·M·扎尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70725 , G03F7/70875
摘要： 一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动。所述基于基底位置的膨胀补偿器与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。
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公开(公告)号：CN101893827B
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201010227605.6
申请日：2006-12-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·J·J·M·扎尔 , J·J·奥坦斯
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70875
摘要： 公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。
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公开(公告)号：CN1945441B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200610142140.8
申请日：2006-10-08
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·A·J·蒂尼曼斯 , W·J·弗尼马 , K·J·J·M·扎尔
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70725 , G03F7/70875
摘要： 用于补偿辐射诱导的热变形的系统和方法一种用于补偿作用在光刻装置上的热效应的系统和方法。所述系统包括构图部件、投影系统、基底位置控制器和基于基底位置的膨胀补偿器。所述构图部件可调制辐射光束。所述投影系统将调制的辐射光束投影到基底靶部上。所述基底位置控制器使基底相对投影系统顺序通过多个曝光位置而移动。所述基于基底位置的膨胀补偿器与基底位置控制器相互作用以改变曝光位置，从而至少部分地补偿基底和投影系统中至少一个的热诱导的几何形状变化。
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公开(公告)号：CN1936709A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200610137526.X
申请日：2006-09-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F7/70341 , G03F7/7045 , G03F7/70458
摘要： 在校准沉浸光刻设备的重叠性能时，使用正常且相反的曲折路径进行曝光得到两组重叠数据。然后使用这两组重叠数据消除由于晶片冷却造成的影响。
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公开(公告)号：CN104094171B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201380008080.9
申请日：2013-02-04
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·P·M·凯德 , V·Y·巴宁 , K·J·J·M·扎尔 , R·巴迪 , H·辛格
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70725 , G03F7/70708 , G03F7/70733 , H01L21/6875
摘要： 一种光刻装置具有支撑件(S)，支撑件设置有用于保持物体(W)的突节(BR)。支撑件已经采用光刻制造方法制造，例如MEMS技术，以便于形成其取向或位置为单独电可控的突节。
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公开(公告)号：CN100517074C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200480038919.4
申请日：2004-12-20
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·史密特斯 , P·J·C·H·斯穆尔德斯 , K·J·J·M·扎尔 , H·H·M·科西 , J·J·奥坦斯 , N·J·吉利森 , J·斯塔里弗尔德
CPC分类号： G03F7/70783
摘要： 光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影到基底靶部的投影系统。所述装置具有用于支撑光刻装置中的对象如基底或构图部件的吸盘系统(100)。所述吸盘系统包括用于支撑对象的吸盘(120)、用于支撑吸盘的框架(110)以及用于相对于框架支撑吸盘的吸盘支撑结构(114)。所述吸盘支撑结构包括至少一个弯曲元件(130)，该弯曲元件在至少一个自由度上是柔性的，并耦合到吸盘和框架。
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公开(公告)号：CN1991591A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200610171747.9
申请日：2006-12-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： K·J·J·M·扎尔 , J·J·奥坦斯
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F7/7085 , G03F7/70858 , G03F7/70875
摘要： 公开了一种光刻装置，其具有与基底台隔开地形成的盖板和通过控制该盖板的温度来稳定基底台的温度的装置。公开了一种光刻装置，其具有布置在盖板和基底台之间的热绝缘体，使得该盖板用作基底台的热屏蔽。公开了一种光刻装置，其包括确定基底台的变形并参考该基底台的变形来改善对基底位置控制的装置。
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公开(公告)号：CN104641297A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201380048294.9
申请日：2013-08-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： R·A·C·M·比伦斯 , R·J·T·鲁滕 , J·S·C·韦斯特拉肯 , K·J·J·M·扎尔 , R·H·A·范莱肖特 , E·A·F·范德帕施
CPC分类号： G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
摘要： 一种平台系统，包括：可移动平台；以及用于测量平台的位置的编码器，其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器，编码器束在使用中沿着光路径传播；净化帽体，至少部分地包围光学路径；以及净化介质供应装置，用于将净化介质供应到净化帽体中。
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