光刻设备和光刻工艺中的方法

    公开(公告)号:CN111352309B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202010227073.X

    申请日:2016-03-09

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种用于光刻设备中的部件,所述部件具有表面,所述表面面对另一部件的另一表面,所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动,其中所述表面容纳有屏障系统,所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障,所述屏障系统包括:至少一个第一开口,适于第一气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘;和至少一个第二开口,相对于被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动,以用于被夹带到第一气体的流动中;其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。

    光刻设备和光刻工艺中的方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111352309A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN202010227073.X

    申请日:2016-03-09

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种用于光刻设备中的部件,所述部件具有表面,所述表面面对另一部件的另一表面,所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动,其中所述表面容纳有屏障系统,所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障,所述屏障系统包括:至少一个第一开口,适于第一气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘;和至少一个第二开口,相对于被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动,以用于被夹带到第一气体的流动中;其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。

    光刻设备和光刻工艺中的方法

    公开(公告)号:CN107533300B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201680022789.8

    申请日:2016-03-09

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70),屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向第一表面与第二表面之间的气体的被保护体积(90)中的流入的屏障。屏障系统包括:至少一个幕帘开口(71),适于幕帘气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与第一表面相邻的部分的气体幕帘(81),和至少一个内夹带开口(72),适于内夹带气体(82)从其流动,以用于被夹带到幕帘气体的流动中。光刻设备被配置成使得内夹带气体的流动与幕帘气体的流动相比更不湍流。至少一个内夹带开口相对于被保护体积在至少一个幕帘开口的径向内侧。

    光刻设备和光刻工艺中的方法

    公开(公告)号:CN107533300A

    公开(公告)日:2018-01-02

    申请号:CN201680022789.8

    申请日:2016-03-09

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70),屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向第一表面与第二表面之间的气体的被保护体积(90)中的流入的屏障。屏障系统包括:至少一个幕帘开口(71),适于幕帘气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与第一表面相邻的部分的气体幕帘(81),和至少一个内夹带开口(72),适于内夹带气体(82)从其流动,以用于被夹带到幕帘气体的流动中。光刻设备被配置成使得内夹带气体的流动与幕帘气体的流动相比更不湍流。至少一个内夹带开口相对于被保护体积在至少一个幕帘开口的径向内侧。