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公开(公告)号:CN104641297A
公开(公告)日:2015-05-20
申请号:CN201380048294.9
申请日:2013-08-19
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: R·A·C·M·比伦斯 , R·J·T·鲁滕 , J·S·C·韦斯特拉肯 , K·J·J·M·扎尔 , R·H·A·范莱肖特 , E·A·F·范德帕施
CPC分类号: G03F7/70725 , G01D5/34 , G01D5/38 , G03F7/70775 , G03F7/70933
摘要: 一种平台系统,包括:可移动平台;以及用于测量平台的位置的编码器,其中编码器包括用于发射编码器束的发射器、用于与编码器束相互作用的光栅、以及用于检测已经与光栅相互作用的编码器束的检测器,编码器束在使用中沿着光路径传播;净化帽体,至少部分地包围光学路径;以及净化介质供应装置,用于将净化介质供应到净化帽体中。
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公开(公告)号:CN111352309B
公开(公告)日:2024-03-01
申请号:CN202010227073.X
申请日:2016-03-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·P·克罗斯 , K·N·S·库特奥 , R·埃尔鲍布希 , R·J·T·鲁滕 , P·J·C·H·斯姆德斯 , M·L·P·维瑟 , J·S·C·韦斯特拉肯
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种用于光刻设备中的部件,所述部件具有表面,所述表面面对另一部件的另一表面,所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动,其中所述表面容纳有屏障系统,所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障,所述屏障系统包括:至少一个第一开口,适于第一气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘;和至少一个第二开口,相对于被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动,以用于被夹带到第一气体的流动中;其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。
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公开(公告)号:CN104412164A
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201380028677.X
申请日:2013-05-17
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆 , R·德琼
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
摘要: 一种用于光刻装置的支撑装置(60),具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开,使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30),所述突起被配置为使得其围绕物体保持件,并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号:CN111837076A
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN201980017251.1
申请日:2019-02-28
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: 马悦 , A·T·W·肯彭 , K·M·休姆勒 , J·H·J·穆尔斯 , J·H·罗梅斯 , H·J·范德威尔 , A·D·拉弗格 , F·布里祖拉 , R·C·怀格斯 , U·P·戈梅斯 , E·内达诺维斯卡 , C·科科玛兹 , A·D·金 , R·M·杜阿尔特·罗德里格斯·努涅斯 , H·A·L·范迪杰克 , W·P·范德伦特 , P·G·琼克斯 , 朱秋石 , P·雅格霍比 , J·S·C·韦斯特拉肯 , M·H·A·里恩德斯 , A·I·厄肖夫 , I·V·福门科夫 , 刘飞 , J·H·W·雅各布斯 , A·S·库兹内特索夫
摘要: 通过气体到包含光学元件的真空室(26)中的受控引入,减少用于生成EUV辐射的系统(SO)中的一个或多个反射光学元件的反射率的劣化。该气体可以被添加到诸如氢气的另一气体流中,或者与氢自由基的引入交替。
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公开(公告)号:CN107367907A
公开(公告)日:2017-11-21
申请号:CN201710708172.8
申请日:2013-05-17
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733 , G03F7/70858
摘要: 一种用于光刻装置的支撑装置(60),具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开,使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30),所述突起被配置为使得其围绕物体保持件,并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号:CN111352309A
公开(公告)日:2020-06-30
申请号:CN202010227073.X
申请日:2016-03-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·P·克罗斯 , K·N·S·库特奥 , R·埃尔鲍布希 , R·J·T·鲁滕 , P·J·C·H·斯姆德斯 , M·L·P·维瑟 , J·S·C·韦斯特拉肯
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种用于光刻设备中的部件,所述部件具有表面,所述表面面对另一部件的另一表面,所述部件和所述另一部件被配置成经历相对于彼此的相对移动,其中所述表面容纳有屏障系统,所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述表面与所述另一表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障,所述屏障系统包括:至少一个第一开口,适于第一气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与所述表面相邻的部分的气体幕帘;和至少一个第二开口,相对于被保护体积在所述至少一个第一开口的径向内侧并且适于第二气体从其流动,以用于被夹带到第一气体的流动中;其中所述屏障系统被配置成使得所述第二气体的流动与所述第一气体的流动相比更不湍流。
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公开(公告)号:CN107533300B
公开(公告)日:2020-02-21
申请号:CN201680022789.8
申请日:2016-03-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·P·克罗斯 , K·N·S·库特奥 , R·埃尔鲍布希 , R·J·T·鲁滕 , P·J·C·H·斯姆德斯 , M·L·P·维瑟 , J·S·C·韦斯特拉肯
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70),屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向第一表面与第二表面之间的气体的被保护体积(90)中的流入的屏障。屏障系统包括:至少一个幕帘开口(71),适于幕帘气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与第一表面相邻的部分的气体幕帘(81),和至少一个内夹带开口(72),适于内夹带气体(82)从其流动,以用于被夹带到幕帘气体的流动中。光刻设备被配置成使得内夹带气体的流动与幕帘气体的流动相比更不湍流。至少一个内夹带开口相对于被保护体积在至少一个幕帘开口的径向内侧。
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公开(公告)号:CN107533300A
公开(公告)日:2018-01-02
申请号:CN201680022789.8
申请日:2016-03-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·P·克罗斯 , K·N·S·库特奥 , R·埃尔鲍布希 , R·J·T·鲁滕 , P·J·C·H·斯姆德斯 , M·L·P·维瑟 , J·S·C·韦斯特拉肯
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70),屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向第一表面与第二表面之间的气体的被保护体积(90)中的流入的屏障。屏障系统包括:至少一个幕帘开口(71),适于幕帘气体从其流动,以用于建立包围被保护体积的与第一表面相邻的部分的气体幕帘(81),和至少一个内夹带开口(72),适于内夹带气体(82)从其流动,以用于被夹带到幕帘气体的流动中。光刻设备被配置成使得内夹带气体的流动与幕帘气体的流动相比更不湍流。至少一个内夹带开口相对于被保护体积在至少一个幕帘开口的径向内侧。
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公开(公告)号:CN107367907B
公开(公告)日:2019-05-03
申请号:CN201710708172.8
申请日:2013-05-17
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC分类号: G03F7/20
摘要: 一种用于光刻装置的支撑装置(60),具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开,使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30),所述突起被配置为使得其围绕物体保持件,并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号:CN104412164B
公开(公告)日:2017-09-12
申请号:CN201380028677.X
申请日:2013-05-17
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
摘要: 一种用于光刻装置的支撑装置(60),具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开,使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30),所述突起被配置为使得其围绕物体保持件,并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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