本发明涉及一种反应腔室及等离子体加工设备，其顶部上方设有线圈，线圈通过第一匹配器与第一电源连接，反应腔室内部设有承载装置，承载装置通过第二匹配器与第二电源连接；第一匹配器包括第一传感器、第一控制器、第一匹配网络和第一滤波网络；第一滤波网络连接于第一控制器和第一匹配网络之间；第二匹配器包括第二传感器、第二控制器、第二匹配网络和第二滤波网络；第二滤波网络连接于第二控制器和第二匹配网络之间。反应腔室可以使第一电源输出的第一功率和第二电源输出的第二功率在工艺过程中保持稳定，不产生大的波动，从而反应腔室内的等离子体的产生和分布保持稳定，以及使工艺具有较好的均匀性和重复性；并使反应腔室的制造成本降低。