发明授权
- 专利标题: 荧光X射线分析装置
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申请号: CN201510321618.2申请日: 2015-06-12
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公开(公告)号: CN105277579B公开(公告)日: 2019-05-21
- 发明人: 高桥春男 , 广濑龙介 , 八木勇夫 , 高原稔幸
- 申请人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 秦琳; 姜甜
- 优先权: 2014-135066 2014.06.13 JP
- 主分类号: G01N23/223
- IPC分类号: G01N23/223
摘要:
本发明涉及荧光X射线分析装置。提供一种能够简便地进行与测定通常的样品的情况相同的条件下的校正测定的荧光X射线分析装置。所述荧光X射线分析装置具备:X射线源;用于对将来自该X射线源的X射线作为一次X射线照射到样品的区域进行限制的照射区域限制单元;用于检测从样品产生的二次X射线的检测器;用于对包含X射线源、照射区域限制单元和检测器的装置进行校正的校正用样品;用于在作为保持该校正用样品并且从所述一次X射线的路径偏离的任意的位置的退避位置和照射从照射区域限制单元射出的X射线的一次X射线照射位置这2个位置之间移动的校正样品移动机构;以及载置样品的样品台,校正样品移动机构为与所述样品台独立的机构。
公开/授权文献
- CN105277579A 荧光X射线分析装置 公开/授权日:2016-01-27