公开(公告)号：CN105277579A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510321618.2

申请日：2015-06-12

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男 ,  广濑龙介 ,  八木勇夫 ,  高原稔幸

IPC分类号： G01N23/223

摘要： 本发明涉及荧光X射线分析装置。提供一种能够简便地进行与测定通常的样品的情况相同的条件下的校正测定的荧光X射线分析装置。所述荧光X射线分析装置具备：X射线源；用于对将来自该X射线源的X射线作为一次X射线照射到样品的区域进行限制的照射区域限制单元；用于检测从样品产生的二次X射线的检测器；用于对包含X射线源、照射区域限制单元和检测器的装置进行校正的校正用样品；用于在作为保持该校正用样品并且从所述一次X射线的路径偏离的任意的位置的退避位置和照射从照射区域限制单元射出的X射线的一次X射线照射位置这2个位置之间移动的校正样品移动机构；以及载置样品的样品台，校正样品移动机构为与所述样品台独立的机构。

公开(公告)号：CN104076052A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410112835.6

申请日：2014-03-25

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 广瀬龙介 ,  高桥春男 ,  的场吉毅 ,  田村浩一

IPC分类号： G01N23/223

CPC分类号： G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G01N2223/31 ,  H05G1/025

摘要： 本发明提供荧光X射线分析装置，其能够通过比较简单的结构和控制来抑制输出强度的变动。该荧光X射线分析装置（1）具有：X射线源（2），其对试样S照射原级X射线；聚光元件（3），其会聚从X射线源照射的原级X射线，减小对于试样的照射面积；检测器（4），其对从被照射原级X射线的试样产生的荧光X射线进行检测；筐体（5），其收纳X射线源和聚光元件；温度传感器（6），其设置在X射线源和X射线源周围的至少一方；外气用扇（7），其在筐体上至少设置有一个，能够更换内部与外部的空气；以及控制部（C），其根据由温度传感器检测出的温度信息对外气用扇进行驱动，将X射线源周围的气氛温度调整为恒定的温度。

公开(公告)号：CN117705847A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202310712435.8

申请日：2023-06-15

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男

IPC分类号： G01N23/2204 ,  G01N23/223 ,  G01N23/20 ,  G01N23/20025

摘要： 提供能更高效地在短时间内实施大量检查的X射线分析装置和X射线分析方法。具有：试样载台(5)，载置试样(S)；X射线源(2)，对试样载台上的照射点(P)照射一次X射线(X1)；X射线检测器(3)，检测从被照射一次X射线的试样放射的二次X射线(X2)，输出包含二次X射线的能量信息的信号；载台移动机构(6)，使试样载台相对于X射线源和X射线检测器移动，试样载台具有载置有试样的检查对象区域(A1)和未载置试样的非检查对象区域(A2)，在照射一次X射线时载台移动机构使照射点始终移动，进行使照射点在非检查对象区域上移动时的照射点的移动比照射点在检查对象区域上移动时的照射点的移动快的照射点的移动速度的控制。

公开(公告)号：CN113884524A

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN202110629795.2

申请日：2021-06-07

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男

IPC分类号： G01N23/223

摘要： 提供X射线分析装置。不需要用于将试样配置于一次X射线(X1)照射区域的位置调整机构和位置调整过程，利用简单的结构实现连续地测定大量小片试样的方法。荧光X射线分析装置构成为包含能够对试样照射X射线的X射线照射部、检测从试样产生的二次X射线的X射线检测部、搬送试样的试样搬送部和对检测到的X射线强度进行处理的数据处理部，使各个结构要素具有以下的功能。试样搬送部使试样移动以使试样通过X射线照射位置。X射线检测部以比试样通过X射线照射部所需要的时间短的时间间隔连续取得X射线能量谱。数据处理部根据连续取得的X射线能量谱的排列，根据X射线能量谱的特征选择试样位于所述X射线照射部的时刻的能量谱。

公开(公告)号：CN105548228A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：CN201510697826.2

申请日：2015-10-23

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 广濑龙介 ,  高桥春男

IPC分类号： G01N23/223 ,  G01B15/02

CPC分类号： H01J35/16 ,  G01N23/223 ,  H01J35/06 ,  H01J35/08 ,  H05G1/02

摘要： 本发明提供X射线产生源和具有其的荧光X射线分析装置。该X射线产生源能够通过简易结构抑制X射线产生位置与用于限定X射线照射区域的机构的位置偏移，其具备对试样(S)照射一次X射线(X1)的X射线管球(2)、收纳X射线管球的壳体(3)、限制一次X射线对于试样的照射面积的X射线照射区域限定机构(4)、以及在壳体上保持X射线照射区域限定机构的机构保持部(5)，X射线管球具备筐体(6)、产生电子线的电子线源(7)、及基端固定在筐体上且在突出的前端部被照射电子线的靶部(8)，机构保持部具有在靶部的基端的正下方固定在壳体上的基端固定部(5a)、及从基端固定部沿着靶部的突出方向延伸并支承X射线照射区域限定机构的延伸支承部(5b)。

公开(公告)号：CN118225823A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202311705231.8

申请日：2023-12-12

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男

IPC分类号： G01N23/22 ,  G01N23/223 ,  G01C11/36 ,  G01B11/06

摘要： 本发明提供一种X射线分析装置。该装置具备：试样载台(2)，其供试样(S)放置；X射线源(3)，其向试样载台上的照射点照射一次X射线(X1)；X射线检测器(4)，其检测从试样放射的二次X射线(X2)；分析器(5)，其对所述信号进行分析；载台移动机构(6)，其使试样载台与X射线源以及X射线检测器相对移动而能够移动照射点；多个观察光学系统(7A、7B)，它们的焦点预先与照射点一致，并且能够对包含照射点的周围进行拍摄，且配置在相互不同的位置；以及运算部(8)，其基于对由多个观察光学系统拍摄到的多个图像进行比较而得到的视差来计算试样的高度位置的偏差量，并基于偏差量来制作从一次X射线的光轴观察到的图像。

公开(公告)号：CN111650223B

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN201911257396.7

申请日：2019-12-10

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 巽正树 ,  八木勇夫 ,  高桥春男

IPC分类号： G01N23/04

摘要： 提供X射线检查装置以及X射线检查方法，能够一边维持检测能力一边削减从TDI传感器传送的数据量，并且能够实时地传送数据。具有：X射线源；试样移动机构，其使试样沿特定的方向移动；TDI传感器；以及TDI运算部，其对沿着特定的方向的多个像素4g中的电荷的蓄积和传送进行控制，TDI运算部具有将进行了电荷的蓄积和传送的累积电荷的数据传送到外部的数据传送部，并且具有将能够检测试样的多列的线传感器4l预先设定为判断区域4A并在判断区域中检测试样的功能，数据传送部将在判断区域中检测到试样的像素的行及该行的周围的行设为检测行，仅对检测行的像素向外部传送累积电荷的数据。

公开(公告)号：CN105277579B

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201510321618.2

申请日：2015-06-12

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男 ,  广濑龙介 ,  八木勇夫 ,  高原稔幸

IPC分类号： G01N23/223

摘要： 本发明涉及荧光X射线分析装置。提供一种能够简便地进行与测定通常的样品的情况相同的条件下的校正测定的荧光X射线分析装置。所述荧光X射线分析装置具备：X射线源；用于对将来自该X射线源的X射线作为一次X射线照射到样品的区域进行限制的照射区域限制单元；用于检测从样品产生的二次X射线的检测器；用于对包含X射线源、照射区域限制单元和检测器的装置进行校正的校正用样品；用于在作为保持该校正用样品并且从所述一次X射线的路径偏离的任意的位置的退避位置和照射从照射区域限制单元射出的X射线的一次X射线照射位置这2个位置之间移动的校正样品移动机构；以及载置样品的样品台，校正样品移动机构为与所述样品台独立的机构。

公开(公告)号：CN102013379B

公开(公告)日：2016-02-03

申请号：CN201010272016.X

申请日：2010-09-02

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 高桥春男 ,  清原正宽 ,  佐藤诚 ,  田代纯一

IPC分类号： H01J37/28 ,  H01J37/304

CPC分类号： G01N23/2255 ,  H01J2237/221

摘要： 本发明提供能够用不具有SEM装置的聚焦离子束装置高效率地连续实施断面加工观察的断面加工观察方法以及装置。作为解决手段，提供一种断面加工观察方法，通过基于聚焦离子束的蚀刻加工在试样上形成断面，通过基于聚焦离子束的断面观察而取得断面观察图像，对包含所述断面的区域进行蚀刻加工，形成新断面，取得新断面的断面观察图像，其特征在于，向试样上的包含标记和断面的区域照射聚焦离子束，取得表面观察图像，在表面观察图像上识别标记的位置，以标记的位置为基准，设定用于形成新断面的聚焦离子束的照射区域，进行试样断面的蚀刻加工。

公开(公告)号：CN111650223A

公开(公告)日：2020-09-11

申请号：CN201911257396.7

申请日：2019-12-10

申请人： 日本株式会社日立高新技术科学

发明人： 巽正树 ,  八木勇夫 ,  高桥春男

IPC分类号： G01N23/04

摘要： 提供X射线检查装置以及X射线检查方法，能够一边维持检测能力一边削减从TDI传感器传送的数据量，并且能够实时地传送数据。具有：X射线源；试样移动机构，其使试样沿特定的方向移动；TDI传感器；以及TDI运算部，其对沿着特定的方向的多个像素4g中的电荷的蓄积和传送进行控制，TDI运算部具有将进行了电荷的蓄积和传送的累积电荷的数据传送到外部的数据传送部，并且具有将能够检测试样的多列的线传感器4l预先设定为判断区域4A并在判断区域中检测试样的功能，数据传送部将在判断区域中检测到试样的像素的行及该行的周围的行设为检测行，仅对检测行的像素向外部传送累积电荷的数据。