- 专利标题： 高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法
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申请号： CN201580048272.1申请日： 2015-10-02
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公开(公告)号： CN106715761B公开(公告)日： 2019-06-07
- 发明人: 久保田贤治 , 樽谷圭荣 , 中矢清隆
- 申请人： 三菱综合材料株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理商 康泉; 王珍仙
- 优先权： 2014-205311 2014.10.04 JP
- 国际申请： PCT/JP2015/078050 2015.10.02
- 国际公布： WO2016/052727 JA 2016.04.07
- 进入国家日期： 2017-03-08
- 主分类号： C25C1/12
- IPC分类号： C25C1/12
摘要：
本发明的高纯度铜电解精炼用添加剂，添加于高纯度铜的电解精炼中的铜电解液，由非离子性表面活性剂构成，所述非离子性表面活性剂具有含芳香族环的疏水基和含聚氧化烯基的亲水基。
公开/授权文献
- CN106715761A 高纯度铜电解精炼用添加剂及高纯度铜的制造方法 公开/授权日：2017-05-24
