连接器用端子材及连接器用端子

    公开(公告)号:CN113166965B

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202080006529.8

    申请日:2020-01-22

    IPC分类号: C25D5/12 C25D7/00

    摘要: 本发明提供一种能够提高耐磨性及耐热性的连接器用端子材及连接器用端子的制造方法。本发明的连接器用端子材具备:基材,至少表层由铜或铜合金组成;及银镍合金层,用于包覆该基材的表面的至少一部分且膜厚为0.5μm以上且50μm以下,银镍合金层的镍含量为0.05原子%以上且2.0原子%以下。并且,在基材与银镍合金层之间设置有由镍或镍合金组成的镍层,该镍层的膜厚优选为0.5μm以上且5μm以下。

    连接器用端子材
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116134181A

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN202180060396.7

    申请日:2021-02-24

    IPC分类号: C25D3/64

    摘要: 本发明的连接器用端子材料具备:基材,至少表面由铜或铜合金构成;及银镍钾合金镀层,形成于基材上的至少一部分,银镍钾合金镀层的膜厚为0.5μm以上且20.0μm以下,镍含量为0.02质量%以上且0.60质量%以下,钾含量为0.03质量%以上且1.00质量%以下,银镍钾合金镀层的平均晶体粒径可以为10nm以上且150nm以下。

    高纯度电解铜的制造方法

    公开(公告)号:CN110678582A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201880035087.2

    申请日:2018-06-01

    IPC分类号: C25C1/12

    摘要: 本发明的高纯度电解铜的制造方法的特征在于,将含有疏水基团的芳香族环和亲水基团的聚氧化烯基的第一添加剂(A)、由聚乙烯醇类构成的第二添加剂(B)及由四唑类构成的第三添加剂(C)添加到铜电解液中,并控制第一添加剂(A)、第二添加剂(B)及第三添加剂(C)的各浓度以及电流密度和浴温以进行铜电解,由此制造如下的电解铜:Ag浓度小于0.2质量ppm、S浓度小于0.07质量ppm以及总杂质浓度小于0.2质量ppm,并且晶粒内平均取向差(称为GOS值)超过2.5°的晶粒以面积比率计为10%以下。

    连接器用端子材料
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114175408A

    公开(公告)日:2022-03-11

    申请号:CN202080054518.7

    申请日:2020-08-03

    摘要: 本发明提供一种连接器用端子材料,其具备:基材,至少表层由铜或铜合金组成;及镀镍层,由覆盖该基材的表面的镍或镍合金组成;及镀银镍合金层,形成于镀镍层上的至少一部分,膜厚为0.5μm以上且20μm以下,镍含量为0.03原子%以上且1.20原子%以下,平均晶体粒径为10nm以上且150nm以下,所述连接器用端子材料能够提高耐磨性及耐热性。

    镀锡铜端子材的制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108368627B

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN201680073372.4

    申请日:2016-12-14

    摘要: 本发明的镀锡铜端子材的制造方法,作为被压接于由铝线材构成的电线的末端的端子使用铜或铜合金基材,从而制造出不易产生电腐蚀并且锡层的密合性优异的镀锡铜端子材,该镀锡铜端子材的制造方法具有:锌镍合金层形成工序,在由铜或铜合金构成的基材之上以0.1μm以上且5.0μm以下的厚度形成含镍率为5质量%以上且50质量%以下的锌镍合金层;及镀锡工序,在锌镍合金层之上实施镀锡来形成锡层,并且还可以具有镀锡工序之后以40℃以上且160℃以下的温度保持30分钟以上,从而使锌镍合金层的锌扩散到锡层的扩散处理工序。