发明公开
- 专利标题: 用于EUV的自由电子激光器辐射源
- 专利标题(英): Free electron laser radiation source for the EUV
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申请号: CN201580043627.8申请日: 2015-07-27
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公开(公告)号: CN106797101A公开(公告)日: 2017-05-31
- 发明人: 安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 , T·J·克嫩 , J·J·M·范海尔福尔特 , W·J·恩格伦 , G·J·H·布鲁斯阿德 , G·G·波尔特 , E·R·鲁普斯特拉
- 申请人: ASML荷兰有限公司
- 申请人地址: 荷兰维德霍温
- 专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人: ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址: 荷兰维德霍温
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 王静
- 优先权: 14181152.1 20140815 EP 15170640.5 20150604 EP
- 国际申请: PCT/EP2015/067159 2015.07.27
- 国际公布: WO2016/023740 EN 2016.02.18
- 进入国家日期: 2017-02-14
- 主分类号: H01S3/09
- IPC分类号: H01S3/09 ; H01S3/00
摘要:
协调了在电子聚束的加速阶段电子聚束穿过线性加速器(LINAC)与在电子聚束的减速阶段电子聚束穿过所述LINAC。根据重复电子聚束序列而将每个连续电子聚束对在时间上间隔开相应的聚束间隔。电子源在所述电子聚束序列中提供清除间隙以允许在波荡器处的离子的清除。所述电子源根据清除间隙序列而提供所述清除间隙,使得对于多个能量恢复LINAC中的每个和对于实质上所有所述清除间隙:对于在加速阶段或减速阶段中的所述清除间隙的每次穿过所述LINAC,协调了所述清除间隙与在减速阶段或加速阶段中穿过所述LINAC的所述清除间隙中的另外一个清除间隙,由此维持所述LINAC的能量恢复操作。
公开/授权文献
- CN106797101B 用于EUV的自由电子激光器辐射源 公开/授权日:2019-07-19