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公开(公告)号：CN115793401A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202211226584.5
申请日：2018-02-15
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
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公开(公告)号：CN117452772A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202311287828.5
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G02F1/35 , H01S3/00 , G02F1/01 , G02B5/00 , H05G2/00 , G03F9/00 , G01N21/88 , G01N21/956 , G01N21/47 , G01B11/02
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN106797101A
公开(公告)日：2017-05-31
申请号：CN201580043627.8
申请日：2015-07-27
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 安德雷·亚历山德罗维奇·尼基佩洛夫 , T·J·克嫩 , J·J·M·范海尔福尔特 , W·J·恩格伦 , G·J·H·布鲁斯阿德 , G·G·波尔特 , E·R·鲁普斯特拉
CPC分类号： H01S3/0903 , H01S3/0071 , H01S3/0959 , H01S3/1024 , H01S3/11 , H01S3/1103
摘要： 协调了在电子聚束的加速阶段电子聚束穿过线性加速器(LINAC)与在电子聚束的减速阶段电子聚束穿过所述LINAC。根据重复电子聚束序列而将每个连续电子聚束对在时间上间隔开相应的聚束间隔。电子源在所述电子聚束序列中提供清除间隙以允许在波荡器处的离子的清除。所述电子源根据清除间隙序列而提供所述清除间隙，使得对于多个能量恢复LINAC中的每个和对于实质上所有所述清除间隙：对于在加速阶段或减速阶段中的所述清除间隙的每次穿过所述LINAC，协调了所述清除间隙与在减速阶段或加速阶段中穿过所述LINAC的所述清除间隙中的另外一个清除间隙，由此维持所述LINAC的能量恢复操作。
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公开(公告)号：CN118435091A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202280085296.4
申请日：2022-11-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： G·J·H·布鲁斯阿德 , J·R·K·科勒
IPC分类号： G02B6/02
摘要： 本文描述一种波导，包括：第一区段，所述第一区段被配置成通过非线性光学过程来产生被提供至所述波导的输入端的脉冲辐射的加宽波长光谱；第二区段，所述第二区段包括所述波导的输出端，所述第二区段被配置成展现比所述第一区段更大的群速度色散的绝对值；其中所述第二区段的长度被配置成使所述加宽波长光谱的一个或更多个峰的峰强度减小至少20％。也在本文中描述一种用于制造波导的方法。
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公开(公告)号：CN110462521B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN201880018587.5
申请日：2018-02-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G02F1/35 , H01S3/00
摘要： 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输出，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
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公开(公告)号：CN112586089A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980054729.8
申请日：2019-07-10
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德 , D·欧德威尔
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 本发明涉及方法和相应设备，其能够操作为引起驱动辐射束与介质之间的相互作用以通过高阶谐波产生来产生发射辐射，所述装置包括：相互作用区，所述相互作用区被定位在相互作用平面且被配置成接收所述介质；束阻挡件，所述束阻挡件在所述相互作用平面的上游被定位在束阻挡平面处且被配置成部分地阻挡所述驱动辐射束；束成形器，所述束成形器在所述束阻挡平面的上游被定位在物平面处且被配置成控制所述驱动辐射束的空间分布；以及至少一个透镜，所述至少一个透镜被定位在所述相互作用平面的上游和所述束阻挡平面的下游，其中所述透镜被定位成使得所述驱动辐射束的所述空间分布的图像形成在所述相互作用平面处。
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公开(公告)号：CN112119355B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN201980032783.2
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G01N21/95 , G01N21/956 , G01N21/88
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN112119355A
公开(公告)日：2020-12-22
申请号：CN201980032783.2
申请日：2019-04-23
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： D·欧德威尔 , P·W·斯摩奥伦堡 , G·J·H·布鲁斯阿德
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G01N21/95 , G01N21/956 , G01N21/88
摘要： 一种照射源设备(500)，所述照射源设备适合用于量测设备中以表征衬底上的结构，所述照射源设备包括：高次谐波产生HHG介质(502)；泵浦辐射源(506)，能够操作为发射泵浦辐射束(508)；和可调整的变换光学器件(510)，所述可调整的变换光学器件被配置为可调整地变换所述泵浦辐射束的横向空间轮廓以产生被变换的束(518)，使得相对于所述被变换的束的中心轴线，所述被变换的束的中心区具有实质上为零的强度，而从所述被变换的束的所述中心轴线径向向外的外部区具有非零的强度，其中所述被变换的束被布置为激励所述HHG介质以产生高次谐波辐射(540)，其中所述外部区的部位依赖于所述可调整的变换光学器件的调整设定。
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公开(公告)号：CN111542783A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201880084670.2
申请日：2018-12-04
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 一种用于确定衬底上的结构的感兴趣的特性的量测设备，所述结构具有衍射性质，所述设备包括：聚焦光学器件，所述聚焦光学器件被配置成将包括多个波长的照射辐射聚焦至所述结构上；第一检测器，所述第一检测器被配置成检测已从所述结构被衍射的照射辐射的至少一部分；和附加光学器件，所述附加光学器件被配置成在所述第一检测器的至少一部分上产生已从所述结构衍射的照射辐射的不同波长的依赖于波长的空间分布，其中所述第一检测器被布置成至少检测已从所述结构衍射的照射辐射的非零衍射阶。
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公开(公告)号：CN110462521A
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201880018587.5
申请日：2018-02-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/84 , G01N21/956 , G02F1/35 , H01S3/00
摘要： 公开了适合于高谐波产生(HHG)辐射源的气体输送系统，所述高谐波产生辐射源可以用于产生用于检查设备的测量辐射。在这样的辐射源中，气体输送元件在第一方向上输送气体。所述气体输送元件具有光学输入和光学输入，限定了在第二方向上延伸的光学路径。所述第一方向相对于所述第二方向以不垂直且不平行的角度来布置。也公开了一种具有气体射流成形装置的气体输送元件，或一对气体输送元件，其中的一个输送第二气体，使得所述气体射流成形装置或第二气体可操作以修改所述气体的流轮廓使得所述气体的数量密度急剧降低。
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