发明公开
- 专利标题: 薄膜电阻热处理工艺方法与制造工艺方法
- 专利标题(英): Heat treatment process method and manufacturing process method for thin-film resistor
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申请号: CN201710304250.8申请日: 2017-05-03
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公开(公告)号: CN107093507A公开(公告)日: 2017-08-25
- 发明人: 芮家群 , 罗彦军 , 韩玉成 , 程德雁 , 希毅 , 侯本昌
- 申请人: 中国振华集团云科电子有限公司
- 申请人地址: 贵州省贵阳市新添大道北段268号附1号
- 专利权人: 中国振华集团云科电子有限公司
- 当前专利权人: 中国振华集团云科电子有限公司
- 当前专利权人地址: 贵州省贵阳市新添大道北段268号附1号
- 代理机构: 北京超凡志成知识产权代理事务所
- 代理商 余剑琴
- 主分类号: H01C17/00
- IPC分类号: H01C17/00 ; H01C17/12 ; H01C17/242 ; H01C17/28 ; H01C17/30
摘要:
本发明提供了一种薄膜电阻热处理工艺方法与制造工艺方法,涉及电子元件领域。该薄膜电阻热处理工艺方法与制造工艺方法通过利用热处理箱对薄膜电阻加热至第一温度点,维持第一温度点预设定的加热时间;然后在预设定的加热时间后,采用至少一个第二温度点对薄膜电阻进行降温处理预设定的降温时间,预设定的降温时间包括有与温度点数量相同的降温时间段,至少一个第二温度点按照降温时间段的先后顺序依次递减,从而实现了使得最终生产出的薄膜电阻的阻值精度一致性更好,合格率更高,且提升了薄膜电阻的耐过电性能、耐疲劳性能以及高温暴露性能。
公开/授权文献
- CN107093507B 薄膜电阻热处理工艺方法与制造工艺方法 公开/授权日:2019-03-15