发明授权
- 专利标题： 基板处理装置和基板处理方法
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申请号： CN201710123005.7申请日： 2017-03-03
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公开(公告)号： CN107154342B公开(公告)日： 2021-11-16
- 发明人: 稻富弘朗 , 冈村聪 , 枇杷聪
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权： 2016-041347 20160303 JP
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; H01L21/67
摘要：
本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。防止向基板处理容器内输入的晶圆上的液体干燥。基板处理装置(3)包括基板处理容器主体(31A)以及保持构件(42)，所述保持构件(42)从该基板处理容器主体(31A)外方将晶圆(W)向基板处理容器主体(31A)内输送，并在处理过程中保持晶圆(W)。在基板处理容器主体(41)的外方设置有支承晶圆(W)的基板支承销(49)和对保持构件(42)进行冷却的冷却板(45)。
公开/授权文献
- CN107154342A 基板处理装置和基板处理方法 公开/授权日：2017-09-12
IPC分类:
