- 专利标题: 一种大尺寸电阻率可调的碳化硅多晶陶瓷的生长方法
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申请号: CN201710213529.5申请日: 2017-04-01
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公开(公告)号: CN107190322B公开(公告)日: 2019-06-11
- 发明人: 高攀 , 忻隽 , 陈辉 , 刘学超 , 郑燕青 , 施尔畏
- 申请人: 中国科学院上海硅酸盐研究所 , 上海硅酸盐研究所中试基地
- 申请人地址: 上海市长宁区定西路1295号
- 专利权人: 中国科学院上海硅酸盐研究所,上海硅酸盐研究所中试基地
- 当前专利权人: 安徽微芯长江半导体材料有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市长宁区定西路1295号
- 代理机构: 上海瀚桥专利代理事务所
- 代理商 曹芳玲; 郑优丽
- 主分类号: C30B29/36
- IPC分类号: C30B29/36 ; C30B28/12 ; C30B28/14
摘要:
本发明涉及一种大尺寸电阻率可调的碳化硅多晶陶瓷的生长方法,采用石墨坩埚盛放碳化硅原料,其中石墨坩埚由石墨坩埚顶盖和石墨坩埚体构成,所述石墨坩埚内表面上设置有碳膜层,将碳化硅原料置于石墨坩埚体内,盖上所述石墨坩埚顶盖,放入生长炉中,并使所述石墨坩埚体的底部和/或下部位于加热区以使石墨坩埚体的底部的温度高于石墨坩埚顶盖的温度,采用物理气相传输方法或者高温化学气相沉积法在所述碳膜层表面生长碳化硅多晶陶瓷材料。本发明生长方法简易,所述碳化硅多晶陶瓷比传统碳化硅陶瓷性能更优异,其均匀性好,致密度更好,纯度更高,热导率更好。
公开/授权文献
- CN107190322A 一种大尺寸电阻率可调的碳化硅多晶陶瓷的生长方法 公开/授权日:2017-09-22