- 专利标题: 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示面板
-
申请号: CN201710564648.5申请日: 2017-07-11
-
公开(公告)号: CN107359126B公开(公告)日: 2020-03-10
- 发明人: 苏同上 , 袁广才 , 王东方 , 赵策 , 周斌 , 刘军 , 邵继峰 , 王庆贺 , 张扬
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 张京波; 曲鹏
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L29/786 ; H01L29/423 ; H01L27/12
摘要:
本发明公开了一种薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示面板,涉及显示技术领域。制备方法包括:在基底上依次形成有源层、栅绝缘层和栅电极,其中,有源层包括沟道区域和导体化区域,栅电极在基底上的正投影包含沟道区域在基底上的正投影。薄膜晶体管包括:依次设置在基底上的有源层、栅绝缘层和栅电极,有源层包括沟道区域和与沟道区域两侧相接的导体化区域,栅电极在基底上的正投影包含沟道区域在基底上的正投影。阵列基板包含该薄膜晶体管,显示面板包含该阵列基板。该制备方法降低了顶栅型薄膜晶体管的开态电阻,使得开态电流增加,降低了显示器件的功耗,提高了显示面板的显示质量。
公开/授权文献
- CN107359126A 薄膜晶体管及其制备方法、阵列基板和显示面板 公开/授权日:2017-11-17
IPC分类: