发明授权
- 专利标题： 静电吸盘及等离子处理装置
-
申请号： CN201780002185.1申请日： 2017-04-28
-
公开(公告)号： CN107710399B公开(公告)日： 2021-04-16
- 发明人: 酒田现示 , 横尾秀和 , 相原强 , 北河胜 , 渡边章
- 申请人： 株式会社爱发科
- 申请人地址： 日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地
- 专利权人： 株式会社爱发科
- 当前专利权人： 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址： 日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地
- 代理机构： 上海和跃知识产权代理事务所
- 代理商 余文娟
- 优先权： 2016-093947 20160509 JP
- 国际申请： PCT/JP2017/017005 2017.04.28
- 国际公布： WO2017/195672 JA 2017.11.16
- 进入国家日期： 2017-12-25
- 主分类号： H01L21/683
- IPC分类号： H01L21/683 ; H01L21/3065 ; H02N13/00
摘要：
本发明的静电吸盘(13)具备：电介质层(41)，其具备板状的托盘支承部(41a)和基板支承部(41b)，托盘支承部(41a)具有表面(41S)，基板支承部(41b)从表面(41S)突出；基板用电极(42)，其位于基板支承部(41b)的内部，用于将基板吸附于基板支承部(41b)；以及托盘用电极(43)，其位于托盘支承部(41a)的内部，用于将供载置基板的托盘吸附于托盘支承部(41a)。
公开/授权文献
- CN107710399A 静电吸盘及等离子处理装置 公开/授权日：2018-02-16
IPC分类:
