Invention Grant
- Patent Title: 半导体器件
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Application No.: CN201610897750.2Application Date: 2016-10-14
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Publication No.: CN107799580BPublication Date: 2020-04-28
- Inventor: 韦维克 , 陈柏安 , 陈鲁夫
- Applicant: 新唐科技股份有限公司
- Applicant Address: 中国台湾新竹科学工业园区
- Assignee: 新唐科技股份有限公司
- Current Assignee: 新唐科技股份有限公司
- Current Assignee Address: 中国台湾新竹科学工业园区
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 乔媛
- Priority: 105128522 2016.09.02 TW
- Main IPC: H01L29/06
- IPC: H01L29/06 ; H01L29/861 ; H01L29/78 ; H01L29/808

Abstract:
本发明提供一种半导体器件,其具有顶层掺杂区。所述顶层掺杂区的一侧的掺质浓度梯度与其相对侧的掺质浓度梯度不同。所述顶层掺杂区可提升器件的击穿电压,并降低器件的开启状态电阻。
Public/Granted literature
- CN107799580A 二极管、接面场效晶体管以及半导体器件 Public/Granted day:2018-03-13
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IPC分类: