Invention Grant

半导体器件
Abstract:
本发明提供一种半导体器件,其具有顶层掺杂区。所述顶层掺杂区的一侧的掺质浓度梯度与其相对侧的掺质浓度梯度不同。所述顶层掺杂区可提升器件的击穿电压,并降低器件的开启状态电阻。
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