- 专利标题: 半导体装置、半导体集成电路以及负载驱动装置
- 专利标题(英): Semiconductor device, semiconductor integrated circuit, and load driving device
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申请号: CN201680045783.2申请日: 2016-07-25
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公开(公告)号: CN107851583A公开(公告)日: 2018-03-27
- 发明人: 池谷克己 , 大岛隆文
- 申请人: 日立汽车系统株式会社
- 申请人地址: 日本茨城县
- 专利权人: 日立汽车系统株式会社
- 当前专利权人: 日立安斯泰莫株式会社
- 当前专利权人地址: 日本茨城县
- 代理机构: 上海华诚知识产权代理有限公司
- 代理商 肖华
- 优先权: 2015-163319 2015.08.21 JP
- 国际申请: PCT/JP2016/071658 2016.07.25
- 国际公布: WO2017/033642 JA 2017.03.02
- 进入国家日期: 2018-02-05
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L21/28 ; H01L21/3205 ; H01L21/768 ; H01L23/522 ; H01L29/78
摘要:
存在无法在二维扩展地配置的晶体管的整个区域中使电流密度均匀的缺点。在并列地配置有多个具有漏极、源极和栅极的晶体管(1)的晶体管层之上,并排设置有连接各晶体管(1)的漏极的作为输入侧布线层的金属布线层(10)以及连接各晶体管的源极的作为输出侧布线层的金属布线层(11)。还具备多个通孔(2、3),该多个通孔(2、3)将作为输入侧布线层的金属布线层(10)与各晶体管的漏极连接,并且将作为输出侧布线层的金属布线层(11)与各晶体管的源极连接。而且,使多个通孔(2、3)的电阻值沿着输入侧布线层以及输出侧布线层的排列方向改变。由此,能够使二维扩展地配置的晶体管的电流密度均匀。
公开/授权文献
- CN107851583B 半导体装置、半导体集成电路以及负载驱动装置 公开/授权日:2021-04-02
IPC分类: