发明授权
- 专利标题： 分析散射术计量中工艺变动的根本原因
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申请号： CN201680082361.2申请日： 2016-11-01
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公开(公告)号： CN108700463B公开(公告)日： 2021-03-23
- 发明人: T·马西安诺 , M·E·阿德尔 , M·吉诺乌克 , B·布林戈尔茨 , D·克莱因 , T·伊茨科维赫 , V·拉马纳坦 , J·坎普
- 申请人： 科磊股份有限公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 科磊股份有限公司
- 当前专利权人： 科磊股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 张世俊
- 优先权： 62/299,693 20160225 US
- 国际申请： PCT/US2016/059954 2016.11.01
- 国际公布： WO2017/146786 EN 2017.08.31
- 进入国家日期： 2018-08-22
- 主分类号： G01J3/28
- IPC分类号： G01J3/28 ; G01J3/40
摘要：
本发明提供方法、计量模块及RCA工具，其使用测量图谱中的(若干)谐振区域的行为以相对于对称及不对称因子评估及特征化工艺变动，且相对于工艺步骤提供所述工艺变动的根本原因分析。可使用具有不同层厚度及工艺变动因子的模型化堆叠的模拟来增强所述分析且对计量测量提供经改良目标设计、经改良算法及可校正项。可利用展现敏感谐振区域的特定目标来增强所述工艺变动评估。
公开/授权文献
- CN108700463A 分析散射术计量中工艺变动的根本原因 公开/授权日：2018-10-23
