本发明涉及一种陶瓷制品表面的镭射加工方法及陶瓷制品。陶瓷制品表面的镭射加工方法，包括以下步骤：对陶瓷制品的加工表面进行清洁；采用超快激光器对陶瓷制品的加工表面进行镭射雕刻得到预先设计的图案：采用单脉冲方式，以800mm/s‑1200mm/s的打标速度进行粗雕；采用多脉冲方式，以50mm/s‑300mm/s的打标速度进行精雕；所述超快激光器的波长为1030nm‑1064nm，脉宽为5ps‑25ps，填充距离为0.005mm‑0.1mm，镭射功率为10％‑40％；由上述方法进行表面处理后的陶瓷制品，所述陶瓷制品加工表面上图案的加工深度为3.1um‑7.8um；可使加工深度达到微米级，使加工深度更浅，陶瓷制品表面触摸手感好。