Invention Grant
- Patent Title: 光学测量装置及光学测量方法
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Application No.: CN201810568761.5Application Date: 2018-06-05
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Publication No.: CN109163666BPublication Date: 2021-06-11
- Inventor: 井上展幸 , 田口都一
- Applicant: 大塚电子株式会社
- Applicant Address: 日本大阪府枚方市
- Assignee: 大塚电子株式会社
- Current Assignee: 大塚电子株式会社
- Current Assignee Address: 日本大阪府枚方市
- Agency: 北京品源专利代理有限公司
- Agent 吕琳; 朴秀玉
- Priority: 2017-111043 20170605 JP
- Main IPC: G01B11/06
- IPC: G01B11/06 ; G01N21/45

Abstract:
本发明提供一种使用了光学测量装置的光学测量方法,所述光学测量装置具备:照射光学系统,向测量对象直线状地照射具有规定的波长范围的测量光;以及测量光学系统,将通过测量光的照射而从测量对象产生的作为透射光或者反射光的直线状的测量干涉光向与该测量干涉光的长尺寸方向正交的方向进行波长扩展,并输出二维图像。光学测量方法包括:针对同一样品取得使入射角不同的情况的实测值分布的步骤;与二维图像上的与被照射测量光的测量对象的各测量点对应的区域关联地,计算与从各测量点到测量光学系统的入射角对应的校正因数的步骤;以及基于沿实测值分布的任一方向的一列或多列像素值集、和对应的校正因数,计算包含样品的折射率的光学特性的步骤。
Public/Granted literature
- CN109163666A 光学测量装置及光学测量方法 Public/Granted day:2019-01-08
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