发明公开
- 专利标题: 真空蒸镀装置
- 专利标题(英): VACUUM DEPOSITION DEVICE
-
申请号: CN201780039108.3申请日: 2017-07-19
-
公开(公告)号: CN109415800A公开(公告)日: 2019-03-01
- 发明人: 北泽僚也 , 中村寿充 , 朝比奈伸一 , 斋藤一也
- 申请人: 株式会社爱发科
- 申请人地址: 日本神奈川县
- 专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人: 株式会社爱发科
- 当前专利权人地址: 日本神奈川县
- 代理机构: 北京英特普罗知识产权代理有限公司
- 代理商 齐永红
- 优先权: 2016-152343 2016.08.02 JP
- 国际申请: PCT/JP2017/026066 2017.07.19
- 国际公布: WO2018/025638 JA 2018.02.08
- 进入国家日期: 2018-12-20
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24
摘要:
本发明提供一种可尽量减少粒子的影响的所谓向下沉积方式的真空蒸镀装置。其具有配置在真空室(1)内的蒸镀源(3),蒸镀源具有容置蒸镀物质(Vm)的容置箱(31)和加热蒸镀物质使其升华或气化的加热装置(33);容置箱中设置有升华或气化了的蒸镀物质的喷出部(32),喷出部相对于真空室内的被成膜物(S)位于垂直方向上方,喷出部具有相对于垂直方向斜向下的喷出口(32b),从该喷出口向被成膜物喷出蒸镀物质,容置箱偏移设置在远离被成膜物的端部的位置上。
公开/授权文献
- CN109415800B 真空蒸镀装置 公开/授权日:2021-01-08