发明公开
- 专利标题: 制造半导体装置的方法
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申请号: CN201810987391.9申请日: 2018-08-28
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公开(公告)号: CN109427593A公开(公告)日: 2019-03-05
- 发明人: 翁翊轩 , 潘正圣 , 刘致为 , 蓝偟翔 , 蔡仲恩 , 吕芳谅
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司 , 刘致为
- 申请人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司,刘致为
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司,刘致为
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权: 62/553,010 2017.08.31 US
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L29/78
摘要:
一种制造半导体装置的方法包含在基板上形成具有交替的多个第一半导体层和多个第二半导体层的堆叠的鳍状结构。多个第一半导体层和多个第二半导体层包含沿第一半导体层和第二半导体层的长度的第二部分的任一侧上的第一部分。多个第一半导体层和多个第二半导体层是由不同的材料形成。移除第一半导体层的第二部分以形成开口。形成掩模层于开口上方的最上层的第二半导体层的第二部分上方。利用来自辐射源的辐射照射第一半导体层和第二半导体层的第一部分,以使来自第一半导体层和第二半导体层的第一部分的材料彼此结合。
公开/授权文献
- CN109427593B 制造半导体装置的方法 公开/授权日:2021-11-02
IPC分类: