发明公开
- 专利标题: 半导体装置及其制造方法
- 专利标题(英): SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
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申请号: CN201711230904.3申请日: 2017-11-29
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公开(公告)号: CN109427701A公开(公告)日: 2019-03-05
- 发明人: 黄冠育 , 蓝子凯 , 殷寿志 , 许书嘉 , 李百渊 , 黄松辉 , 李祥帆 , 韩英信
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号
- 代理机构: 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 蕭輔寬
- 优先权: 15/687,943 2017.08.28 US
- 主分类号: H01L23/31
- IPC分类号: H01L23/31 ; H01L23/498 ; H01L23/522
摘要:
本发明实施例涉及半导体装置及其制造方法。该半导体装置包含衬底、封装、第一导体及第二导体。所述衬底包含第一表面及与所述第一表面相对的第二表面。所述封装放置于所述衬底上方。所述第一导体放置于所述衬底上方。所述第二导体放置于所述衬底上方,其中所述第一导体及所述第二导体基本上处于同一层级,且所述第二导体的宽度大于所述第一导体的宽度。
公开/授权文献
- CN109427701B 半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2022-04-01
IPC分类: