- 专利标题: 一种半导体薄膜四象限光照传感器及其制备方法
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申请号: CN201710740273.3申请日: 2017-08-25
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公开(公告)号: CN109427923B公开(公告)日: 2020-06-16
- 发明人: 刘生忠 , 秦炜 , 王辉 , 杜敏永 , 曹越先 , 张豆豆 , 李灿
- 申请人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 申请人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人: 中国科学院大连化学物理研究所
- 当前专利权人地址: 辽宁省大连市中山路457号
- 代理机构: 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司
- 代理商 郑虹
- 主分类号: H01L31/028
- IPC分类号: H01L31/028 ; H01L31/0296 ; H01L31/0304 ; H01L31/032 ; H01L31/108 ; H01L31/18 ; H01L51/42 ; H01L51/46 ; H01L51/48
摘要:
本发明提供一种半导体薄膜四象限光照传感器及其制备方法。该传感器具有多层结构,从光入射面由表及里依次为光阑、衬底、顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极和保护层;所述传感器顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极具有阵列结构,其中每个单元所包含的顶电极、半导体薄膜光电转化层、背电极相互连通,单元之间的半导体薄膜光电转化层、背电极彼此不连通。本发明所述传感器的光电转化层为半导体薄膜材料,使器件阻抗显著增加,提高了测量稳定性。本发明所述制备方法,使器件加工精度显著增加,提高了测量精确度。
公开/授权文献
- CN109427923A 一种半导体薄膜四象限光照传感器及其制备方法 公开/授权日:2019-03-05