发明授权
- 专利标题: 形成微图案的方法及基板处理设备
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申请号: CN201811612414.4申请日: 2018-12-27
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公开(公告)号: CN109976097B公开(公告)日: 2024-06-18
- 发明人: 张相信 , 白宗玟 , 徐训硕 , 李义福 , 姜成进 , V.阮 , 郑德泳 , 安商熏 , 吴赫祥 , 刘禹炅
- 申请人: 三星电子株式会社
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人: 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 屈玉华
- 主分类号: G03F7/09
- IPC分类号: G03F7/09 ; G03F7/004
摘要:
这里提供了一种形成微图案的方法,其包括:在基板上形成蚀刻目标膜;在蚀刻目标膜上形成光敏辅助层,光敏辅助层用亲水基团封端;在光敏辅助层上形成粘合层,粘合层与亲水基团形成共价键;在粘合层上形成疏水的光致抗蚀剂膜;以及图案化光致抗蚀剂膜。
公开/授权文献
- CN109976097A 形成微图案的方法及基板处理设备 公开/授权日:2019-07-05