发明公开

填充通孔的方法
摘要:
本发明涉及一种填充通孔的方法。在为基板,例如印刷电路板中的具有通闪镀铜层的孔进行铜电镀的过程中,所述方法抑制或减少了凹陷或孔隙将包含二硫化物化合物的酸溶液施加到基板中的通孔,随后采用包含添加剂,如光亮剂和流平剂的酸性铜电镀浴,用铜填充通孔。
0/0