- 专利标题: 光学装置、曝光装置、光学装置制造方法和物品制造方法
- 专利标题(英): Optical apparatus, exposure apparatus, method of manufacturing optical apparatus, and method of manufacturing article
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申请号: CN201910341356.4申请日: 2019-04-26
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公开(公告)号: CN110412704A公开(公告)日: 2019-11-05
- 发明人: 中岛猛 , 户村聪 , 羽切正人 , 关美津留
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 杨小明
- 优先权: 2018-085720 2018.04.26 JP
- 主分类号: G02B7/00
- IPC分类号: G02B7/00 ; G03F7/20
摘要:
本发明涉及光学装置、曝光装置、光学装置制造方法和物品制造方法。一种光学装置包括光学部件、被配置为支撑光学部件的支撑机构、操纵机构,该操纵机构被配置为在接触光学部件的同时操纵光学部件,使得光学部件的状态改变。通过操纵机构将光学部件从光学部件由支撑机构支撑的第一状态改变为光学部件由操纵机构支撑的第二状态。
公开/授权文献
- CN110412704B 光学装置、曝光装置、光学装置制造方法和物品制造方法 公开/授权日:2022-03-29
IPC分类:
G | 物理 |
G02 | 光学 |
G02B | 光学元件、系统或仪器 |
G02B7/00 | 光学元件的安装、调整装置或不漏光连接 |