保持装置、曝光装置、物品制造方法

    公开(公告)号:CN112147855A

    公开(公告)日:2020-12-29

    申请号:CN202010587042.5

    申请日:2020-06-24

    IPC分类号: G03F7/20 G02B7/00

    摘要: 本发明提供一种保持装置、曝光装置、物品制造方法。为了提供能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置,本发明所涉及的保持装置以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持光学元件,其中,具备:保持光学元件的台座及载置台座的载置台,台座及载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及按压机构,夹着与面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压光学元件。

    保持装置、曝光装置、物品制造方法

    公开(公告)号:CN112147855B

    公开(公告)日:2024-09-03

    申请号:CN202010587042.5

    申请日:2020-06-24

    IPC分类号: G03F7/20 G02B7/00

    摘要: 本发明提供一种保持装置、曝光装置、物品制造方法。为了提供能够以再现光学面的形状的方式保持光学元件的保持装置,本发明所涉及的保持装置以使光学元件的光学面的面法线与重力方向非平行的方式,保持光学元件,其中,具备:保持光学元件的台座及载置台座的载置台,台座及载置台相互针对的接触面的一方是曲面;以及按压机构,夹着与面法线垂直的第1剖面,从两侧以预定的按压力按压光学元件。

    光学系统、曝光装置以及物品制造方法

    公开(公告)号:CN114815514A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202210076491.2

    申请日:2022-01-24

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: 本发明涉及光学系统、曝光装置以及物品制造方法。包括第1光学元件和第2光学元件的光学系统具备支承所述第1光学元件的多个第1支承部、支承所述第2光学元件的多个第2支承部、分别调整所述多个第1支承部的位置的多个第1线性调整机构以及分别调整所述多个第2支承部的位置的多个第2线性调整机构。通过由所述多个第1线性调整机构对所述多个第1支承部的位置进行的调整,所述第1光学元件至少关于第1轴被进行调整,通过由所述多个第2线性调整机构对所述多个第2支承部的位置进行的调整,所述第2光学元件至少关于与所述第1轴不同的第2轴被进行调整。