发明授权
- 专利标题: 谐振器、晶片及谐振器制造方法
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申请号: CN201910328541.X申请日: 2019-04-23
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公开(公告)号: CN110868171B公开(公告)日: 2024-04-16
- 发明人: 田秀伟 , 李亮 , 吕鑫 , 梁东升 , 刘青林 , 马杰 , 高渊 , 丁现朋 , 冯利东 , 崔玉兴 , 张力江 , 刘相伍 , 杨志 , 商庆杰 , 李宏军 , 李丽 , 卜爱民 , 王强 , 付兴昌
- 申请人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 申请人地址: 河北省石家庄市合作路113号
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人地址: 河北省石家庄市合作路113号
- 代理机构: 石家庄国为知识产权事务所
- 代理商 米文智
- 主分类号: H03H3/02
- IPC分类号: H03H3/02 ; H03H3/04 ; H03H9/02 ; H03H9/17 ; H03H9/54
摘要:
本发明涉及半导体技术领域,公开了一种谐振器、晶片及谐振器制造方法。该谐振器包括衬底;多层结构,形成于所述衬底上,所述多层结构由下至上依次包括下电极层、压电层、上电极层和声镜对;所述上电极层和下电极层中的至少一者包括:电极层和温度补偿层;其中,在所述衬底和所述多层结构之间形成有腔体,所述腔体包括位于所述衬底上表面之下的下半腔体和超出所述衬底上表面并向所述多层结构突出的上半腔体。上述谐振器通过设置具有下半腔体和上半腔体的腔体、声镜对及温度补偿层,从而形成一种新型的谐振器结构,且具有较好的性能。
公开/授权文献
- CN110868171A 谐振器、晶片及谐振器制造方法 公开/授权日:2020-03-06