Invention Grant
- Patent Title: 电子器件和制造该电子器件的方法
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Application No.: CN201910226482.5Application Date: 2019-03-25
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Publication No.: CN110911492BPublication Date: 2024-04-05
- Inventor: 许镇盛 , 李润姓 , 赵常玹 , 申建旭 , 申铉振
- Applicant: 三星电子株式会社
- Applicant Address: 韩国京畿道
- Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee: 三星电子株式会社
- Current Assignee Address: 韩国京畿道
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 弋桂芬
- Main IPC: H01L29/78
- IPC: H01L29/78 ; H01L29/41 ; H01L21/336

Abstract:
提供了一种电子器件和制造该电子器件的方法。一种电子器件可以包括:衬底;在衬底上的栅电极;在衬底和栅电极之间的铁电层;以及在衬底和铁电层之间的碳层。该碳层可以具有sp2键合结构。
Public/Granted literature
- CN110911492A 电子器件和制造该电子器件的方法 Public/Granted day:2020-03-24
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IPC分类: