量测方法和装置

发明授权

CN111065970B 量测方法和装置有权

摘要：

一种方法，包括：针对一个或多个测量质量参数，评估与使用图案化过程所处理的衬底的量测目标的测量相关联的多个偏振特性；并且基于测量质量参数中的一个或多个测量质量参数，从多个偏振特性中选择一个或多个偏振特性。

公开/授权文献

信息查询

中国专利公布公告 Global Dossier Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）