-
公开(公告)号：CN116325069A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180054398.5
申请日：2021-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： V·C·伯金 , S·W·H·K·斯蒂恩布林克 , M·艾伯特 , D·马丁内斯·内格雷特·加斯奎 , H·W·穆克 , A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/317
Abstract: 本文公开了一种被配置为朝向目标投射多束带电粒子的多束带电粒子柱，该多束带电粒子柱包括：至少一个孔径阵列，包括至少两个不同孔径图案；以及旋转器，被配置为在不同孔径图案之间旋转该孔径阵列。
-
-
公开(公告)号：CN107533299B
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201680020990.2
申请日：2016-03-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
Abstract: 一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
-
公开(公告)号：CN113050388B
公开(公告)日：2024-11-05
申请号：CN202110313757.6
申请日：2016-03-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
Abstract: 本公开的实施例涉及用于检测及量测的方法与装置。一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
-
公开(公告)号：CN113050388A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110313757.6
申请日：2016-03-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
Abstract: 本公开的实施例涉及用于检测及量测的方法与装置。一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108292103A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680067807.4
申请日：2016-09-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种测量光刻工艺的参数的方法，该方法包括：利用辐射照射衬底上的衍射测量目标，测量目标包括至少第一子目标、至少第二子目标和至少第三子目标，其中第一、第二和第三子目标均包括周期性结构，并且其中第一、第二和第三子目标均具有不同的设计，并且其中至少两个子目标分别被设计用于确定不同的光刻工艺参数；以及检测由至少两个子目标散射的辐射，以针对该目标获取表示光刻工艺的不同参数的测量值。
-
公开(公告)号：CN108604065B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201680081072.0
申请日：2016-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种方法，包括：利用具有第一偏振的第一辐射束(940)照射量测目标(T)的至少第一周期结构(1010)，利用具有不同的第二偏振的第二辐射束(950)照射量测目标(T)的至少第二周期结构(1000)，将从第一周期结构(1010)衍射的辐射与从第二周期结构(1000)衍射的辐射进行组合以引起干涉，以及根据检测的组合辐射确定感兴趣的参数。
-
-
公开(公告)号：CN108604065A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201680081072.0
申请日：2016-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种方法，包括：利用具有第一偏振的第一辐射束(940)照射量测目标(T)的至少第一周期结构(1010)，利用具有不同的第二偏振的第二辐射束(950)照射量测目标(T)的至少第二周期结构(1000)，将从第一周期结构(1010)衍射的辐射与从第二周期结构(1000)衍射的辐射进行组合以引起干涉，以及根据检测的组合辐射确定感兴趣的参数。
-
公开(公告)号：CN107533299A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201680020990.2
申请日：2016-03-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·M·威廉斯 , K·布哈塔查里亚 , P·P·宾特维诺斯 , G·陈 , M·艾伯特 , P·J·M·H·克奈里森 , S·摩根 , M·范德沙 , L·H·M·维斯塔彭 , J-S·王 , P·H·瓦德尼尔
CPC classification number: G06F17/5009 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F7/70683 , G03F9/7046 , G06F2217/16
Abstract: 一种方法，包括：执行仿真以对多个量测目标和/或用来测量量测目标的多个量测选配方案进行评价；从经评价的多个量测目标和/或量测选配方案中标识一个或多个量测目标和/或量测选配方案；接收一个或多个标识的量测目标和/或量测选配方案的测量数据；以及使用测量数据来调整量测目标参数或量测选配方案参数。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.02 seconds)
