发明公开
- 专利标题: 磁性存储器及其制造方法
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申请号: CN201911033480.0申请日: 2019-10-28
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公开(公告)号: CN111105824A公开(公告)日: 2020-05-05
- 发明人: 应继锋 , 王仲盛 , 林灿
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 62/752,274 2018.10.29 US
- 主分类号: G11C11/16
- IPC分类号: G11C11/16 ; H01L43/08 ; H01L43/12 ; H01L27/22
摘要:
一种磁性存储器包括:设置在衬底上方的第一自旋轨道转移-自旋扭矩转移(SOT-STT)混合磁性器件、设置在衬底上方的第二SOT-STT混合磁性器件以及连接至第一和第二SOT-STT混合磁性器件的SOT导电层。第一SOT-STT混合磁性器件和第二SOT-STT混合磁性器件中的每个包括:第一磁性层,作为磁性自由层;间隔件层,设置在第一磁性层下方;以及第二磁性层,作为磁性参考层,设置在间隔件层下方。SOT导电层设置在第一SOT-STT混合磁性器件和第二SOT-STT混合磁性器件中的每个的第一磁性层上方。本发明的实施例还涉及磁性存储器的制造方法。
公开/授权文献
- CN111105824B 磁性存储器及其制造方法 公开/授权日:2021-12-28