- 专利标题: 一种具有大面积侧壁金属图形的薄膜电路的制备方法
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申请号: CN202010041400.2申请日: 2020-01-15
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公开(公告)号: CN111243964B公开(公告)日: 2021-06-08
- 发明人: 赵飞 , 王志成 , 贾世旺 , 徐亚新 , 刘晓兰 , 梁广华 , 严英占 , 卢会湘 , 唐小平 , 王康 , 杨宗亮 , 王杰 , 段龙帆
- 申请人: 中国电子科技集团公司第五十四研究所
- 申请人地址: 河北省石家庄市中山西路589号中国电子科技集团公司第五十四研究所微系统中心
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第五十四研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第五十四研究所
- 当前专利权人地址: 河北省石家庄市中山西路589号中国电子科技集团公司第五十四研究所微系统中心
- 代理机构: 河北东尚律师事务所
- 代理商 王文庆
- 主分类号: H01L21/48
- IPC分类号: H01L21/48 ; H01L23/485 ; H01L23/498
摘要:
本发明公开了一种具有大面积侧壁金属图形的薄膜电路的制备方法,属于薄膜电路技术领域。该方法包括制作腔体外形标记、制作正面金属化图形、对基片正面进行两层保护、开腔、从背面向上进行金属溅射并电镀加厚、去胶、划切等步骤,制备出的薄膜电路,其侧壁金属层与背面金属层同时形成,从而使两者的连接部为完整、连续、平滑的过渡结构。本发明方法简便易行,制备出的薄膜电路结构和效果更加优良,可作为实现小型化、高可靠、高频微波/毫米波电路的一项关键技术,对相关技术领域具有重要意义。
公开/授权文献
- CN111243964A 一种具有大面积侧壁金属图形的薄膜电路及其制备方法 公开/授权日:2020-06-05
IPC分类: