发明公开
- 专利标题: 一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工方法
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申请号: CN202010117840.1申请日: 2020-02-25
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公开(公告)号: CN111365020A公开(公告)日: 2020-07-03
- 发明人: 张程凯 , 胡建华 , 闫自海 , 童育聪 , 尤鸿波 , 叶卡尔 , 李师 , 陈子健
- 申请人: 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市潮王路22号
- 专利权人: 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
- 当前专利权人: 中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市潮王路22号
- 代理机构: 浙江杭州金通专利事务所有限公司
- 代理商 刘晓春
- 主分类号: E21D11/10
- IPC分类号: E21D11/10 ; E21F16/02 ; E02D29/02 ; E02D17/20 ; E02D17/18
摘要:
本发明涉及一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工方法。当洞口段为围岩较破碎的Ⅴ级洞口、不满足“半明半暗”进洞的条件时,结合现有地势进行“人造地形”,在偏压侧施作正面及侧面挡墙,对正面挡墙及侧面挡墙内侧进行水泥土回填并碾压,以满足进洞条件。采用反压回填方法进洞施工,可解决傍山偏压、局部漏空的隧道进洞难题,同时可以减少浅埋偏压地段边、仰坡开挖高度,减少对山体的干扰和破坏,避免汛期施工造成的水土流失,减少了开挖对周边环境影响小,充分体现了人与自然和谐发展的理念。本发明可以实现安全进洞,对保证项目整体建成有重要作用,具有一定的推广和实用价值。
IPC分类: