本发明揭示用于检验光刻光罩的方法及设备。基于从设计数据库产生的光罩数据库图像来经由深度学习过程产生近场光罩图像，且基于所述近场光罩图像来经由基于物理的过程模拟检验系统的图像平面处的远场光罩图像。所述深度学习过程包含基于最小化所述远场光罩图像与通过使由所述设计数据库制造的训练光罩成像获取的多个对应训练光罩图像之间的差异来训练深度学习模型，且此类训练光罩图像根据图案多样性来选择且是无缺陷的。经由裸片到数据库过程来检验由所述设计数据库制造的测试光罩的测试区域的缺陷，所述裸片到数据库过程包含比较来自参考远场光罩图像的多个参考图像与由所述检验系统从所述测试光罩获取的多个测试图像。基于由所述经训练的深度学习模型产生的参考近场光罩图像来模拟所述参考远场光罩图像。