本发明涉及用于表面处理粉末的表面处理设备和方法。该表面处理设备，包括：在其中限定容纳空间的腔室；设置在腔室的第一端的注入部，以便将气体注入到容纳空间中；设置在腔室的与第一端相对的第二端的排放部，以便从容纳空间排放未反应气体；以及至少一个子腔室，该至少一个子腔室装载在腔室的容纳空间中的第一端和第二端之间，其中，粉末被填充在子腔室中，并且子腔室包括设置在子腔室的至少一个表面中的网格结构，以允许气体被引入子腔室中，并且子腔室可以从第一端移动到第二端。