发明授权
- 专利标题: 半导体存储装置
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申请号: CN201910724580.1申请日: 2019-08-07
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公开(公告)号: CN111725229B公开(公告)日: 2024-01-26
- 发明人: 中冢圭祐 , 窪田吉孝 , 内海哲章 , 下城义朗 , 胜又龙太
- 申请人: 铠侠股份有限公司
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 铠侠股份有限公司
- 当前专利权人: 铠侠股份有限公司
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 贺月娇; 杨晓光
- 优先权: 2019-055071 2019.03.22 JP
- 主分类号: H10B43/35
- IPC分类号: H10B43/35 ; H10B43/20
摘要:
本发明涉及半导体存储装置。至少一个实施例提供易于小型化的半导体存储装置。一种半导体存储装置包括第一导电层、第二导电层、第三导电层、接触插塞、在第二导电层和第三导电层之间延伸的存储器沟槽。存储器沟槽形成在接触插塞周围,并包围接触插塞所设置于的第一区域。第二区域与第一区域分离,并且包括贯穿第一导电层的柱。第二导电层在第一和第二区域之间延伸,并被连接到第一导电层。第三导电层位于第一区域的与第二区域相对的一侧,并被连接到第一导电层。
公开/授权文献
- CN111725229A 半导体存储装置 公开/授权日:2020-09-29